1. 補鍍硬鉻的適(shi)應(ying)性


a. 由于(yu)電網停電，鍍鉻(ge)中(zhong)途(tu)斷電，來電后需要(yao)繼續補鍍鉻(ge)以(yi)達到規定厚度者(zhe)。


b. 由于工作上的失誤，不銹鋼表面局部鍍上硬鉻而另一部分尚未鍍上鉻，需要在已鍍硬鉻表面和未鍍上硬鉻的不銹鋼表面上繼續鍍硬鉻至規定厚度者。


c. 鍍完(wan)硬鉻(ge)后(hou)鉻(ge)層厚度未達到規(gui)定尺寸(cun)，或在(zai)磨(mo)光硬鉻(ge)層后(hou)產品尺寸(cun)未達規(gui)定要(yao)求者。


 以上諸種情況，可以不采用退除鉻(ge)層重鍍鉻(ge)，而可實施在表面上補鍍硬鉻(ge)。



2. 工藝分析


  鉻(ge)(ge)上(shang)補鍍(du)鉻(ge)(ge)和不銹鋼(gang)鍍(du)鉻(ge)(ge)的(de)(de)(de)(de)表(biao)面(mian)(mian)活(huo)(huo)(huo)化(hua)處理不盡(jin)相同，鉻(ge)(ge)上(shang)鍍(du)鉻(ge)(ge)是(shi)要將(jiang)鍍(du)鉻(ge)(ge)表(biao)面(mian)(mian)作為(wei)(wei)陽極(ji)進行腐蝕一定時間，以(yi)形成(cheng)微(wei)觀粗糙(cao)的(de)(de)(de)(de)活(huo)(huo)(huo)化(hua)表(biao)面(mian)(mian)，再將(jiang)鍍(du)件轉(zhuan)換成(cheng)陰(yin)極(ji)，再階(jie)梯(ti)遞升(sheng)電(dian)(dian)流到工藝規范(fan)的(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)流進行鍍(du)鉻(ge)(ge)。不銹鋼(gang)表(biao)面(mian)(mian)電(dian)(dian)鍍(du)是(shi)將(jiang)表(biao)面(mian)(mian)作為(wei)(wei)陰(yin)極(ji)以(yi)小(xiao)電(dian)(dian)流活(huo)(huo)(huo)化(hua)，利(li)用陰(yin)極(ji)釋放的(de)(de)(de)(de)原子態(tai)氫還(huan)原不銹鋼(gang)表(biao)面(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)鈍化(hua)膜(mo)（或(huo)稱氧化(hua)膜(mo)），達到活(huo)(huo)(huo)化(hua)目的(de)(de)(de)(de)。在此情(qing)況下，為(wei)(wei)使(shi)漏鍍(du)的(de)(de)(de)(de)不銹鋼(gang)活(huo)(huo)(huo)化(hua)，又要使(shi)鉻(ge)(ge)層表(biao)面(mian)(mian)活(huo)(huo)(huo)化(hua)，應選擇陰(yin)極(ji)活(huo)(huo)(huo)化(hua)為(wei)(wei)主，陽極(ji)腐蝕為(wei)(wei)輔的(de)(de)(de)(de)辦法，即(ji)鍍(du)件先作為(wei)(wei)陽極(ji)腐蝕2min,再陰(yin)極(ji)活(huo)(huo)(huo)化(hua)時間相當于15min,隨后陰(yin)極(ji)電(dian)(dian)流逐步上(shang)升(sheng)，不銹鋼(gang)表(biao)面(mian)(mian)和鉻(ge)(ge)層表(biao)面(mian)(mian)逐步達到鉻(ge)(ge)的(de)(de)(de)(de)析出電(dian)(dian)位，沉積了鉻(ge)(ge)層。




3. 補(bu)鍍硬(ying)鉻工(gong)藝(yi)流程


 化(hua)學除油（用去油劑在室溫下擦洗）→水洗→酸(suan)(suan)洗［鹽酸(suan)(suan)10%(質(zhi)量分數）清洗］→水洗→酸(suan)(suan)洗漏鍍(du)處（4+1氫氟酸(suan)(suan)）→水洗→人槽→預熱→陽極腐蝕（DA15~20A/d㎡,時(shi)間2min)→陰極活化(hua)（DK 5A/d㎡2,階(jie)梯(ti)遞升電(dian)流，每隔1~2min提升一次電(dian)流，提升幅(fu)度(du)1~4A/d㎡,約提升8次，共10~15min升至(zhi)正(zheng)常電(dian)流）→正(zheng)常鍍(du)鉻（DK 15~40A/d㎡,時(shi)間鍍(du)至(zhi)最小厚(hou)度(du)超過(guo)所需厚(hou)度(du)）→水洗→檢驗→除氫。


 經過上述工(gong)藝流程的補鍍(du)鉻，原來漏鍍(du)處經檢查也(ye)全部(bu)補鍍(du)齊，無一(yi)處鉻層(ceng)脫(tuo)落。