不(bu)銹鋼化(hua)學(xue)與(yu)電化(hua)學(xue)蝕刻(ke)法主要有(you)以(yi)下(xia)幾種：
1. 照相感光蝕刻法(fa)
用一次性感光膜涂覆在不(bu)銹鋼(gang)表面上，然后覆上有花紋的底片，進行曝光，然后進行顯影，即在不銹鋼上形成花紋抗蝕膜，然后在腐蝕液中進行蝕刻，達到預期的蝕刻效果。
①. 不銹鋼量(liang)尺(chi)的蝕刻，即用照相感(gan)光蝕刻法，以(yi)三氯化鐵為蝕刻液，蝕刻后，再進行(xing)鍍(du)黑色(se)(se)鍍(du)層，形成清(qing)晰(xi)的有色(se)(se)刻度、數字(zi)和標(biao)記的不銹鋼量(liang)尺(chi)。
②. 不銹(xiu)鋼筆(bi)桿、筆(bi)套上(shang)蝕花的半色調(diao)腐蝕成像工藝,其(qi)方法是將攝有圖(tu)案連續(xu)調(diao)的負片(pian)，進行加(jia)網(wang)翻拍，成為(wei)由(you)網(wang)點組成的半色調(diao)底(di)片(pian)，將底(di)片(pian)覆蓋在(zai)已(yi)涂(tu)有感光(guang)膜的不銹(xiu)鋼筆(bi)桿、筆(bi)套上(shang)，然后將其(qi)插在(zai)可旋(xuan)轉的軸芯上(shang)旋(xuan)轉曝光(guang)。顯影后在(zai)室溫下用三(san)氯化鐵溶液蝕刻至(zhi)0.02~0.03mm,最后鍍黑或白鉻，涂(tu)罩(zhao)光(guang)涂(tu)料。
③. 不銹鋼手表(biao)殼(ke)、表(biao)帶(dai)通過(guo)照相蝕(shi)刻法(fa)形成凹凸面的圖案，并在腐蝕(shi)的凹面部分著上彩(cai)色膜,或除去抗蝕(shi)膜后鍍鎳及(ji)金,得到具有良好裝飾性的手表(biao)殼(ke)、表(biao)帶(dai)。
2. 絲網印刷蝕刻法
絲(si)(si)網印(yin)刷(shua)因制版、印(yin)刷(shua)簡(jian)便，適于(yu)各種形狀的(de)表面，不(bu)受(shou)印(yin)刷(shua)數量(liang)多少的(de)限制，成為(wei)目前國際(ji)上五大印(yin)刷(shua)工藝之一。隨著(zhu)絲(si)(si)網印(yin)版、絲(si)(si)印(yin)油墨及設備等技術(shu)的(de)進步(bu)，絲(si)(si)印(yin)的(de)精度越來越高，與照(zhao)相感光蝕刻(ke)法(fa)一樣，絲(si)(si)印(yin)蝕刻(ke)法(fa)在(zai)不(bu)銹鋼標牌、裝飾(shi)板等的(de)生產中(zhong)已(yi)得(de)到(dao)廣泛(fan)的(de)應用。
日本粟野秀記介紹在不銹鋼表面用絲(si)印方法(fa)形成帶圖紋(wen)的(de)非導電性抗(kang)蝕膜，在45℃,40°Bé的(de)三氯(lv)化鐵溶液中將裸(luo)露部分的(de)不銹鋼蝕刻，深度為0.02~0.05mm,然后電解著色。
日本中村三(san)等介紹在(zai)SUS304不銹鋼餐具上(shang)用(yong)絲(si)網印刷各種耐酸的(de)不同色彩(cai)(cai)的(de)搪(tang)瓷(ci)玻璃料進行掩(yan)蔽腐(fu)蝕的(de)方法(fa),形(xing)成多色彩(cai)(cai)的(de)花紋圖(tu)案。
3. 平版膠印蝕刻法
與絲印(yin)(yin)相比，平版膠印(yin)(yin)的速度較(jiao)快，抗蝕膜的印(yin)(yin)刷可用印(yin)(yin)鐵流(liu)水(shui)線來完成,但適(shi)印(yin)(yin)范圍(wei)較(jiao)窄(zhai)，印(yin)(yin)刷面(mian)積受到限制，且僅適(shi)用于厚度為0.15~0.30mm的薄不銹鋼平版印(yin)(yin)刷蝕刻。
日(ri)本特許公報(bao)介(jie)紹了一種用(yong)于(yu)不銹鋼膠(jiao)印掩蔽蝕刻(ke)的油(you)墨(mo)，該油(you)墨(mo)是由酚醛樹(shu)脂經5%~10%硝酸處理后制成(cheng)的。普通的印鐵油(you)墨(mo)為改性(xing)醇酸樹(shu)脂，也可作(zuo)為抗蝕膜(mo)使(shi)用(yong)。
4. 印刷膜轉移蝕刻(ke)法(fa)
李金題(ti)利用印刷(shua)膜轉移(yi)法的(de)原理(li)提出一(yi)種(zhong)在凹凸不銹鋼制品上印刷(shua)花(hua)紋(wen)圖(tu)案(an)腐(fu)(fu)蝕(shi)的(de)技術(shu)方(fang)案(an)。先印制帶有圖(tu)案(an)的(de)薄紙(zhi)，然后涂(tu)上一(yi)層(ceng)均勻的(de)桃膠，晾干后，再印刷(shua)一(yi)層(ceng)抗腐(fu)(fu)蝕(shi)油墨(mo)在薄紙(zhi)上形成印刷(shua)膜，然后把印刷(shua)膜轉移(yi)到不銹鋼工件表面(mian)，經過清水浸泡后，薄紙(zhi)面(mian)脫落(luo)，但(dan)抗腐(fu)(fu)蝕(shi)油墨(mo)仍貼在不銹鋼表面(mian)，經修飾(shi)后用三氯(lv)化鐵溶(rong)液(ye)蝕(shi)刻(ke)形成花(hua)紋(wen)圖(tu)案(an)。
5. 絲網電解蝕刻法
絲(si)(si)網電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)法是利用(yong)已制版(ban)的絲(si)(si)網印版(ban)緊貼于(yu)(yu)不銹鋼工件表面作為抗蝕(shi)(shi)膜(mo)層，在絲(si)(si)網上涂布蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液，然后以工件為陽極(ji)，以能覆蓋圖(tu)(tu)案的輔助電(dian)(dian)(dian)極(ji)為陰(yin)極(ji)進(jin)行電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)。絲(si)(si)網電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)SUS304 不銹鋼，示(shi)意圖(tu)(tu)見圖(tu)(tu)10-11。蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)過程可(ke)交替變換(huan)電(dian)(dian)(dian)極(ji)極(ji)性，也可(ke)以使用(yong)交流或直流與交流交替進(jin)行蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)。絲(si)(si)網電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)法可(ke)省去印刷(shua)抗蝕(shi)(shi)油墨(mo)、烘干及腐(fu)蝕(shi)(shi)后除(chu)膜(mo)等工序，蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)速率快，可(ke)在幾何形狀復雜的表面進(jin)行局部蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)，特別(bie)適用(yong)于(yu)(yu)在產品上直接打標印。
電解(jie)蝕(shi)刻(ke)液(ye)一般(ban)含有(you)硫(liu)酸(suan)、磷酸(suan)及鹽酸(suan)等無(wu)機酸(suan)，以不(bu)銹鋼工件(jian)為陽(yang)極，裸露部分的不(bu)銹鋼表面腐蝕(shi)剝(bo)落，形成花紋圖像。專利絲網電解(jie)蝕(shi)刻(ke)液(ye)及工作(zuo)條件(jian)有(you)下(xia)列幾例。
①. 戶信夫(fu)日本專利絲網(wang)電解蝕刻液
硫酸（H2SO4) 10% 、陽極電流密度（DA) 3A/d㎡ 、氯化鈉（NaCl) 1% 、時間 30s 、聚丙烯酸鈉 3%
輔助電(dian)極手動(dong)(dong)移(yi)動(dong)(dong)。
②. 日本專利電解蝕刻(ke)除(chu)去不銹鋼上的彩(cai)色膜
不銹(xiu)鋼先經鉻酸(suan)、硫酸(suan)著色(se)，并經鉻酸(suan)－硫酸(suan)溶液陰極堅膜處理，然后在硫酸(suan)與（或）磷酸(suan)和表面活(huo)性劑的(de)溶液中進行陽極電解(jie)蝕刻(ke)，可得到平滑的(de)蝕刻(ke)面。
③. 方琳專利快速深度電化學蝕(shi)刻液
三氯化鐵（FeCl3) 40%~60% (質量分數） 、水 余量 、電極 石墨
鹽酸（HCI) 1%~10% 、溫度 20~35℃ 、擴(kuo)散劑(ji)JFC 0.01%~1.00%
電流：先以(yi)Dk=0.1~0.5A/c㎡陰極(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)化(hua)1~2min,再以(yi)DA=0.6~1.0A/c㎡陽(yang)極(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)化(hua)50~60min。
蝕刻過程用(yong)噴淋裝(zhuang)置連續噴刷不銹(xiu)鋼(gang)表(biao)面。
④. 何積銓(quan)專利超微精細蝕刻方法
三氯化鐵（FeCl3) 1000mL 、 重鉻酸鉀（K2Cr2O7) 0.5%~1.0% 、鹽酸（HCI) 40~50mL
輔助電極 18-8SS 、硝酸（HNO3) 150~200mL 、陽極與陰極面積比 SA:SK=1:1
電(dian)流：先以DK=0.5~1.0A/c㎡2陰(yin)極(ji)極(ji)化50~60min,再(zai)以DA=0.2~ 0.5A/c㎡陽(yang)極(ji)蝕刻。
蝕(shi)刻(ke)過程不(bu)斷(duan)攪拌蝕(shi)刻(ke)液(ye)。
⑤. 譚文武介紹了電解標(biao)印方(fang)法(fa)
用同為孔版的蠟紙或透明(ming)薄(bo)膜(mo)(mo)等模版代(dai)替絲網，將電(dian)(dian)(dian)解(jie)標(biao)印(yin)設計成專(zhuan)用的電(dian)(dian)(dian)解(jie)標(biao)印(yin)儀。將輔助電(dian)(dian)(dian)極制(zhi)成標(biao)印(yin)頭(tou)（打標(biao)頭(tou)），使刻(ke)印(yin)操(cao)(cao)作更為簡便。電(dian)(dian)(dian)解(jie)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)時隨標(biao)印(yin)字符(fu)的多少變化自動(dong)調(diao)控電(dian)(dian)(dian)流與(yu)電(dian)(dian)(dian)壓，使之(zhi)保持電(dian)(dian)(dian)壓12~36V,電(dian)(dian)(dian)流0~2A,蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)時間2~3s,蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)深度(du)0.01~0.10mm,透明(ming)薄(bo)膜(mo)(mo)膜(mo)(mo)版的使用壽命達到(dao)上萬次(ci)。據報道，瑞典(dian)奧斯汀標(biao)志系統公司在廣州展(zhan)示其專(zhuan)利產品電(dian)(dian)(dian)解(jie)腐蝕(shi)(shi)(shi)打標(biao)機，其原(yuan)理及操(cao)(cao)作方法(fa)與(yu)上述電(dian)(dian)(dian)解(jie)標(biao)印(yin)完全一致(zhi)。
6. 多(duo)層次蝕刻法
多層次蝕刻法(fa)是通過(guo)系列(lie)的(de)抗蝕涂膜(mo)和(he)蝕刻步(bu)驟，獲得不銹(xiu)鋼表面不同(tong)蝕刻深度的(de)花紋(wen)圖案的(de)一種工(gong)(gong)藝(yi)方法(fa)。其工(gong)(gong)藝(yi)步(bu)驟為(wei)：
①. 在不銹鋼表面形成第一層次的抗蝕膜(mo)，蝕刻、去(qu)膜(mo)；
②. 在上(shang)述(shu)不銹鋼表面形成第二層次(ci)的抗蝕膜(mo)，再(zai)次(ci)蝕刻(ke)，去膜(mo)；
③. 最少(shao)有一部(bu)分第一層(ceng)(ceng)次(ci)和第二層(ceng)(ceng)次(ci)的蝕(shi)(shi)刻(ke)圖紋互相覆蓋(gai)，使(shi)該處的表面被(bei)蝕(shi)(shi)刻(ke)兩次(ci)，形成(cheng)不同蝕(shi)(shi)刻(ke)深度的多層(ceng)(ceng)次(ci)花紋圖案。
