不銹鋼化學與電化學蝕刻(ke)法主(zhu)要有以下幾種：
1. 照相感光(guang)蝕刻法
用一次性感光膜涂覆在不(bu)銹鋼(gang)表面上，然后覆上有花紋的底片，進行曝光，然后進行顯影，即在不銹鋼上形成花紋抗蝕膜，然后在腐蝕液中進行蝕刻，達到預期的蝕刻效果。
①. 不(bu)銹鋼量尺(chi)的蝕(shi)刻，即用(yong)照相(xiang)感光蝕(shi)刻法，以三氯化鐵為蝕(shi)刻液，蝕(shi)刻后，再進行(xing)鍍黑色(se)(se)鍍層，形(xing)成清(qing)晰的有色(se)(se)刻度、數字和標記的不(bu)銹鋼量尺(chi)。
②. 不銹(xiu)鋼筆(bi)(bi)桿、筆(bi)(bi)套(tao)上蝕(shi)花的(de)半色調腐蝕(shi)成像工藝(yi),其方法(fa)是(shi)將(jiang)攝有圖案連續調的(de)負片(pian)(pian)，進(jin)行加網翻拍，成為由網點組成的(de)半色調底(di)(di)片(pian)(pian)，將(jiang)底(di)(di)片(pian)(pian)覆(fu)蓋在已涂有感光膜的(de)不銹(xiu)鋼筆(bi)(bi)桿、筆(bi)(bi)套(tao)上，然后將(jiang)其插在可旋(xuan)轉的(de)軸(zhou)芯(xin)上旋(xuan)轉曝光。顯影(ying)后在室溫下用三氯化(hua)鐵溶液(ye)蝕(shi)刻(ke)至0.02~0.03mm,最后鍍黑或(huo)白鉻，涂罩光涂料。
③. 不銹(xiu)鋼(gang)手表(biao)殼、表(biao)帶通(tong)過照相蝕刻法形成凹凸面的(de)圖案，并(bing)在(zai)腐蝕的(de)凹面部(bu)分著上(shang)彩(cai)色膜(mo),或除去抗蝕膜(mo)后鍍(du)鎳(nie)及金,得到(dao)具(ju)有良好裝飾性的(de)手表(biao)殼、表(biao)帶。
2. 絲網印(yin)刷蝕刻法
絲(si)網印(yin)刷(shua)(shua)因(yin)制版(ban)、印(yin)刷(shua)(shua)簡便，適于各種形狀(zhuang)的(de)表面，不受(shou)印(yin)刷(shua)(shua)數量多少的(de)限制，成為目前國際上五大印(yin)刷(shua)(shua)工藝之一。隨(sui)著絲(si)網印(yin)版(ban)、絲(si)印(yin)油(you)墨及(ji)設備(bei)等(deng)技術的(de)進(jin)步，絲(si)印(yin)的(de)精度越來越高，與照相(xiang)感光蝕刻(ke)法(fa)一樣，絲(si)印(yin)蝕刻(ke)法(fa)在(zai)不銹鋼標(biao)牌(pai)、裝飾板等(deng)的(de)生產中已得(de)到廣泛(fan)的(de)應用。
日本(ben)粟野秀記介紹(shao)在不銹(xiu)鋼(gang)表(biao)面(mian)用絲印方法形成帶圖紋的非導電性抗蝕(shi)膜，在45℃,40°Bé的三(san)氯(lv)化鐵溶液中將裸(luo)露部分的不銹(xiu)鋼(gang)蝕(shi)刻，深度為(wei)0.02~0.05mm,然后電解(jie)著色。
日(ri)本中村三等介(jie)紹在SUS304不(bu)銹鋼(gang)餐具上用絲網(wang)印刷各種耐酸的(de)不(bu)同色彩的(de)搪瓷(ci)玻璃料(liao)進行掩蔽腐蝕的(de)方法,形(xing)成多色彩的(de)花紋圖案。
3. 平版膠印蝕刻法
與絲印(yin)相(xiang)比(bi)，平版(ban)膠印(yin)的速(su)度較快，抗蝕(shi)膜的印(yin)刷(shua)可(ke)用(yong)印(yin)鐵(tie)流水線(xian)來(lai)完成,但適印(yin)范(fan)圍較窄，印(yin)刷(shua)面積受到限制，且僅(jin)適用(yong)于厚(hou)度為0.15~0.30mm的薄不銹(xiu)鋼平版(ban)印(yin)刷(shua)蝕(shi)刻。
日本特許公(gong)報介紹了一種用于(yu)不(bu)銹鋼膠印(yin)掩(yan)蔽蝕刻的(de)(de)油墨，該油墨是(shi)由酚醛樹脂經5%~10%硝(xiao)酸(suan)處理后制成的(de)(de)。普通的(de)(de)印(yin)鐵油墨為改(gai)性(xing)醇(chun)酸(suan)樹脂，也可作為抗(kang)蝕膜(mo)使用。
4. 印刷膜轉移蝕刻法
李金(jin)題(ti)利用印(yin)刷膜轉(zhuan)移法的原(yuan)理提出一(yi)種在(zai)(zai)凹(ao)凸不(bu)銹(xiu)(xiu)鋼(gang)(gang)(gang)制品(pin)上(shang)印(yin)刷花(hua)紋圖(tu)案腐(fu)蝕(shi)的技術方案。先(xian)印(yin)制帶(dai)有(you)圖(tu)案的薄紙(zhi)，然后(hou)涂上(shang)一(yi)層(ceng)(ceng)均勻(yun)的桃膠，晾干后(hou)，再印(yin)刷一(yi)層(ceng)(ceng)抗(kang)(kang)腐(fu)蝕(shi)油墨在(zai)(zai)薄紙(zhi)上(shang)形成印(yin)刷膜，然后(hou)把印(yin)刷膜轉(zhuan)移到不(bu)銹(xiu)(xiu)鋼(gang)(gang)(gang)工件表面，經(jing)過清(qing)水浸泡(pao)后(hou)，薄紙(zhi)面脫落，但(dan)抗(kang)(kang)腐(fu)蝕(shi)油墨仍貼在(zai)(zai)不(bu)銹(xiu)(xiu)鋼(gang)(gang)(gang)表面，經(jing)修飾后(hou)用三(san)氯化鐵溶液蝕(shi)刻(ke)形成花(hua)紋圖(tu)案。
5. 絲(si)網電解(jie)蝕刻法(fa)
絲(si)網(wang)電解蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)法是利用已制(zhi)版的(de)絲(si)網(wang)印(yin)版緊(jin)貼于不銹(xiu)鋼工件(jian)(jian)表(biao)面作為抗(kang)蝕(shi)膜(mo)層，在(zai)(zai)(zai)絲(si)網(wang)上(shang)涂布(bu)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液，然后以工件(jian)(jian)為陽(yang)極(ji)，以能覆蓋圖(tu)(tu)案的(de)輔(fu)助電極(ji)為陰(yin)極(ji)進行(xing)電解蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)。絲(si)網(wang)電解蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)SUS304 不銹(xiu)鋼，示(shi)意圖(tu)(tu)見圖(tu)(tu)10-11。蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)過程可(ke)交(jiao)(jiao)替(ti)變換電極(ji)極(ji)性，也可(ke)以使(shi)用交(jiao)(jiao)流或直流與交(jiao)(jiao)流交(jiao)(jiao)替(ti)進行(xing)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)。絲(si)網(wang)電解蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)法可(ke)省去印(yin)刷抗(kang)蝕(shi)油墨、烘干及(ji)腐蝕(shi)后除(chu)膜(mo)等(deng)工序(xu)，蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)速率(lv)快，可(ke)在(zai)(zai)(zai)幾何形狀復雜的(de)表(biao)面進行(xing)局部(bu)蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)，特別(bie)適用于在(zai)(zai)(zai)產品上(shang)直接打(da)標印(yin)。
電解蝕(shi)刻液一般含有(you)硫酸(suan)、磷酸(suan)及鹽酸(suan)等無機酸(suan)，以不(bu)銹鋼工(gong)件(jian)為陽極，裸露(lu)部分(fen)的(de)不(bu)銹鋼表面腐蝕(shi)剝落，形成花(hua)紋圖像(xiang)。專利絲(si)網電解蝕(shi)刻液及工(gong)作(zuo)條件(jian)有(you)下列幾例。
①. 戶信(xin)夫日本專利絲(si)網電解(jie)蝕(shi)刻液
硫酸（H2SO4) 10% 、陽極電流密度（DA) 3A/d㎡ 、氯化鈉（NaCl) 1% 、時間 30s 、聚丙烯酸鈉 3%
輔助電(dian)極(ji)手動移動。
②. 日本(ben)專利電解蝕(shi)刻(ke)除(chu)去不銹(xiu)鋼上(shang)的彩色(se)膜
不(bu)銹鋼先經(jing)鉻酸、硫酸著色(se)，并經(jing)鉻酸－硫酸溶(rong)液陰極(ji)堅膜處理，然后在硫酸與(yu)（或(huo)）磷酸和表面活性(xing)劑的溶(rong)液中進(jin)行陽極(ji)電解蝕刻，可得到平滑的蝕刻面。
③. 方琳專利(li)快速深度(du)電化學蝕刻液
三氯化鐵（FeCl3) 40%~60% (質量分數） 、水 余量 、電極 石墨
鹽酸（HCI) 1%~10% 、溫度 20~35℃ 、擴(kuo)散劑JFC 0.01%~1.00%
電流：先(xian)以(yi)Dk=0.1~0.5A/c㎡陰極(ji)(ji)極(ji)(ji)化(hua)1~2min,再以(yi)DA=0.6~1.0A/c㎡陽極(ji)(ji)極(ji)(ji)化(hua)50~60min。
蝕刻過程(cheng)用噴淋裝(zhuang)置(zhi)連續(xu)噴刷不銹(xiu)鋼表面(mian)。
④. 何積銓專(zhuan)利(li)超微(wei)精細(xi)蝕(shi)刻方法
三氯化鐵（FeCl3) 1000mL 、 重鉻酸鉀（K2Cr2O7) 0.5%~1.0% 、鹽酸（HCI) 40~50mL
輔助電極 18-8SS 、硝酸（HNO3) 150~200mL 、陽極與陰極面積比 SA:SK=1:1
電流：先以DK=0.5~1.0A/c㎡2陰極(ji)極(ji)化(hua)50~60min,再(zai)以DA=0.2~ 0.5A/c㎡陽極(ji)蝕刻。
蝕(shi)(shi)刻過程不(bu)斷攪拌(ban)蝕(shi)(shi)刻液。
⑤. 譚文武(wu)介紹了電解標印方法
用同為孔版(ban)的(de)蠟紙或透明(ming)(ming)薄膜等模版(ban)代替絲網，將(jiang)電(dian)(dian)(dian)解(jie)標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)設計成專用的(de)電(dian)(dian)(dian)解(jie)標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)儀。將(jiang)輔助電(dian)(dian)(dian)極制成標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)頭(tou)（打(da)標(biao)(biao)(biao)頭(tou)），使刻(ke)印(yin)(yin)操作更為簡(jian)便。電(dian)(dian)(dian)解(jie)蝕(shi)刻(ke)時隨標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)字(zi)符的(de)多少變化自(zi)動調控電(dian)(dian)(dian)流與電(dian)(dian)(dian)壓(ya)，使之保持(chi)電(dian)(dian)(dian)壓(ya)12~36V,電(dian)(dian)(dian)流0~2A,蝕(shi)刻(ke)時間2~3s,蝕(shi)刻(ke)深度(du)0.01~0.10mm,透明(ming)(ming)薄膜膜版(ban)的(de)使用壽命達到(dao)上萬(wan)次。據報道(dao)，瑞典奧(ao)斯汀(ting)標(biao)(biao)(biao)志系統公司在廣(guang)州展(zhan)示其專利(li)產品(pin)電(dian)(dian)(dian)解(jie)腐(fu)蝕(shi)打(da)標(biao)(biao)(biao)機，其原理及操作方(fang)法與上述電(dian)(dian)(dian)解(jie)標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)完全一致。
6. 多層次蝕刻(ke)法
多層次(ci)蝕刻(ke)法(fa)是(shi)通(tong)過系列的(de)抗蝕涂膜和蝕刻(ke)步驟，獲得(de)不銹(xiu)鋼表面不同蝕刻(ke)深度的(de)花紋(wen)圖案的(de)一種(zhong)工藝(yi)方(fang)法(fa)。其工藝(yi)步驟為：
①. 在不銹鋼(gang)表面形成第一層(ceng)次的抗(kang)蝕膜，蝕刻、去膜；
②. 在上(shang)述不銹鋼表(biao)面形成第二(er)層(ceng)次的抗蝕(shi)膜(mo)，再次蝕(shi)刻，去膜(mo)；
③. 最少有一(yi)(yi)部分(fen)第(di)一(yi)(yi)層(ceng)(ceng)次(ci)和第(di)二層(ceng)(ceng)次(ci)的蝕(shi)刻圖紋(wen)互(hu)相(xiang)覆蓋，使(shi)該處(chu)的表(biao)面被蝕(shi)刻兩次(ci)，形成不(bu)同(tong)蝕(shi)刻深度(du)的多層(ceng)(ceng)次(ci)花紋(wen)圖案。
