不(bu)銹鋼化學與電化學蝕刻法主要(yao)有以下幾種(zhong)：
1. 照相感光蝕刻法
用一次性感光膜涂覆在不銹(xiu)鋼(gang)表面上，然后覆上有花紋的底片，進行曝光，然后進行顯影，即在不銹鋼上形成花紋抗蝕膜，然后在腐蝕液中進行蝕刻，達到預期的蝕刻效果。
①. 不(bu)(bu)銹鋼量(liang)尺的(de)蝕(shi)(shi)刻(ke)，即用(yong)照相感光蝕(shi)(shi)刻(ke)法，以三氯化鐵(tie)為蝕(shi)(shi)刻(ke)液，蝕(shi)(shi)刻(ke)后，再進行(xing)鍍(du)黑色(se)鍍(du)層，形成(cheng)清晰的(de)有色(se)刻(ke)度、數字(zi)和標(biao)記的(de)不(bu)(bu)銹鋼量(liang)尺。
②. 不銹鋼筆(bi)桿、筆(bi)套上蝕花的半色調(diao)腐蝕成像(xiang)工(gong)藝(yi),其方法是將(jiang)攝(she)有圖(tu)案連(lian)續調(diao)的負片，進行加(jia)網(wang)翻拍，成為由網(wang)點組(zu)成的半色調(diao)底片，將(jiang)底片覆蓋在(zai)(zai)已(yi)涂有感光(guang)膜(mo)的不銹鋼筆(bi)桿、筆(bi)套上，然后將(jiang)其插在(zai)(zai)可旋(xuan)轉(zhuan)的軸芯上旋(xuan)轉(zhuan)曝光(guang)。顯影(ying)后在(zai)(zai)室溫下(xia)用三氯化鐵溶液蝕刻至0.02~0.03mm,最后鍍(du)黑或白(bai)鉻，涂罩光(guang)涂料。
③. 不銹鋼手(shou)表殼(ke)、表帶(dai)通過(guo)照(zhao)相蝕刻法形成凹(ao)凸面(mian)的(de)圖案，并在腐蝕的(de)凹(ao)面(mian)部分著上彩色膜,或除去(qu)抗蝕膜后鍍鎳及金,得到具有(you)良好(hao)裝(zhuang)飾性(xing)的(de)手(shou)表殼(ke)、表帶(dai)。
2. 絲(si)網印刷蝕(shi)刻法
絲網印(yin)(yin)刷(shua)(shua)因制版、印(yin)(yin)刷(shua)(shua)簡便，適于各種形(xing)狀(zhuang)的表面，不受(shou)印(yin)(yin)刷(shua)(shua)數量(liang)多少的限制，成為目前(qian)國(guo)際(ji)上五大印(yin)(yin)刷(shua)(shua)工藝之一(yi)。隨著(zhu)絲網印(yin)(yin)版、絲印(yin)(yin)油墨及設備等技術的進步(bu)，絲印(yin)(yin)的精度越(yue)(yue)來越(yue)(yue)高，與照相(xiang)感光(guang)蝕刻法一(yi)樣(yang)，絲印(yin)(yin)蝕刻法在不銹鋼標(biao)牌、裝飾板等的生產中已(yi)得到廣泛的應(ying)用(yong)。
日(ri)本粟野秀(xiu)記介紹在不銹鋼(gang)表面(mian)用絲印(yin)方法(fa)形成(cheng)帶圖(tu)紋的(de)非(fei)導(dao)電性抗(kang)蝕膜(mo)，在45℃,40°Bé的(de)三氯化(hua)鐵(tie)溶液(ye)中(zhong)將裸(luo)露部分的(de)不銹鋼(gang)蝕刻，深度為0.02~0.05mm,然(ran)后電解著色。
日本(ben)中村三等介紹在(zai)SUS304不銹(xiu)鋼餐具上用絲網印刷各種耐酸的(de)不同色彩(cai)(cai)的(de)搪瓷玻璃料進(jin)行掩蔽腐蝕的(de)方法,形成(cheng)多色彩(cai)(cai)的(de)花紋圖案。
3. 平版膠印蝕刻法
與絲印(yin)相比，平(ping)版(ban)膠(jiao)印(yin)的速(su)度(du)較(jiao)快(kuai)，抗蝕膜的印(yin)刷可用印(yin)鐵流水線來完成,但適印(yin)范圍較(jiao)窄，印(yin)刷面積受到限(xian)制，且僅適用于厚度(du)為0.15~0.30mm的薄(bo)不銹(xiu)鋼平(ping)版(ban)印(yin)刷蝕刻。
日本特許公(gong)報(bao)介紹(shao)了(le)一(yi)種用于不銹鋼(gang)膠印掩蔽(bi)蝕刻的(de)(de)油(you)墨，該(gai)油(you)墨是由酚醛(quan)樹(shu)脂經5%~10%硝酸(suan)處理后制成的(de)(de)。普通的(de)(de)印鐵油(you)墨為(wei)改性(xing)醇酸(suan)樹(shu)脂，也可作(zuo)為(wei)抗蝕膜使用。
4. 印刷膜(mo)轉移蝕刻(ke)法
李金題利(li)用印刷膜(mo)轉移法的(de)原(yuan)理提出一(yi)種(zhong)在凹凸(tu)不銹鋼制品上印刷花紋圖(tu)案腐蝕(shi)的(de)技術方(fang)案。先印制帶有圖(tu)案的(de)薄(bo)紙(zhi)，然后涂上一(yi)層均勻的(de)桃膠，晾干(gan)后，再印刷一(yi)層抗腐蝕(shi)油(you)墨(mo)在薄(bo)紙(zhi)上形成(cheng)印刷膜(mo)，然后把(ba)印刷膜(mo)轉移到(dao)不銹鋼工件(jian)表(biao)面，經過清水(shui)浸(jin)泡后，薄(bo)紙(zhi)面脫落，但(dan)抗腐蝕(shi)油(you)墨(mo)仍貼在不銹鋼表(biao)面，經修飾后用三氯化鐵溶液蝕(shi)刻形成(cheng)花紋圖(tu)案。
5. 絲網電解蝕刻法
絲(si)網(wang)電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)法(fa)是利用已(yi)制版的(de)絲(si)網(wang)印(yin)(yin)版緊貼于不(bu)(bu)銹鋼工(gong)件(jian)表(biao)面(mian)(mian)作為(wei)抗(kang)蝕(shi)(shi)膜層，在絲(si)網(wang)上涂布蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液，然后以(yi)工(gong)件(jian)為(wei)陽極，以(yi)能覆蓋圖(tu)案的(de)輔助電(dian)(dian)極為(wei)陰極進(jin)行電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)。絲(si)網(wang)電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)SUS304 不(bu)(bu)銹鋼，示意圖(tu)見圖(tu)10-11。蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)過(guo)程可交(jiao)替變(bian)換電(dian)(dian)極極性，也可以(yi)使用交(jiao)流(liu)(liu)或直流(liu)(liu)與交(jiao)流(liu)(liu)交(jiao)替進(jin)行蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)。絲(si)網(wang)電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)法(fa)可省去印(yin)(yin)刷抗(kang)蝕(shi)(shi)油墨、烘干(gan)及腐蝕(shi)(shi)后除膜等工(gong)序，蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)速率快，可在幾何形狀復雜的(de)表(biao)面(mian)(mian)進(jin)行局部蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)，特別(bie)適用于在產品(pin)上直接打標印(yin)(yin)。
電(dian)解(jie)蝕刻液一般(ban)含有硫酸、磷酸及(ji)鹽酸等無機酸，以不銹鋼工件為陽(yang)極，裸露部分(fen)的(de)不銹鋼表面腐蝕剝落，形成花紋圖像。專利絲網(wang)電(dian)解(jie)蝕刻液及(ji)工作條件有下列幾例。
①. 戶信夫日本(ben)專利絲網(wang)電解蝕刻液
硫酸（H2SO4) 10% 、陽極電流密度（DA) 3A/d㎡ 、氯化鈉（NaCl) 1% 、時間 30s 、聚丙烯酸鈉 3%
輔助電極手(shou)動移動。
②. 日本專利電解蝕刻除去(qu)不(bu)銹鋼(gang)上的彩色膜
不銹鋼先經鉻酸(suan)、硫(liu)酸(suan)著色，并(bing)經鉻酸(suan)－硫(liu)酸(suan)溶(rong)液陰(yin)極(ji)堅膜(mo)處理，然后(hou)在(zai)硫(liu)酸(suan)與（或）磷(lin)酸(suan)和表面活(huo)性劑的(de)溶(rong)液中進(jin)行陽極(ji)電(dian)解(jie)蝕(shi)刻(ke)，可得(de)到(dao)平(ping)滑的(de)蝕(shi)刻(ke)面。
③. 方琳(lin)專利快速深度電化學(xue)蝕刻液(ye)
三氯化鐵（FeCl3) 40%~60% (質量分數） 、水 余量 、電極 石墨
鹽酸（HCI) 1%~10% 、溫度 20~35℃ 、擴散(san)劑JFC 0.01%~1.00%
電流：先(xian)以Dk=0.1~0.5A/c㎡陰極(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)化1~2min,再以DA=0.6~1.0A/c㎡陽極(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)化50~60min。
蝕(shi)刻過程用噴淋裝置連(lian)續噴刷(shua)不銹鋼表面。
④. 何積銓專利超微精細蝕刻(ke)方法
三氯化鐵（FeCl3) 1000mL 、 重鉻酸鉀（K2Cr2O7) 0.5%~1.0% 、鹽酸（HCI) 40~50mL
輔助電極 18-8SS 、硝酸（HNO3) 150~200mL 、陽極與陰極面積比 SA:SK=1:1
電(dian)流：先以DK=0.5~1.0A/c㎡2陰極(ji)極(ji)化50~60min,再以DA=0.2~ 0.5A/c㎡陽極(ji)蝕刻。
蝕(shi)刻(ke)過程不斷攪拌蝕(shi)刻(ke)液。
⑤. 譚文武介紹了電解標印方法(fa)
用同為孔版(ban)的(de)蠟(la)紙或透(tou)明(ming)薄(bo)膜(mo)等模版(ban)代替絲網(wang)，將電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)標(biao)(biao)印(yin)設計成專用的(de)電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)標(biao)(biao)印(yin)儀。將輔助(zhu)電(dian)(dian)(dian)極(ji)制(zhi)成標(biao)(biao)印(yin)頭（打(da)標(biao)(biao)頭），使刻印(yin)操(cao)作(zuo)更為簡(jian)便。電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)蝕(shi)刻時隨(sui)標(biao)(biao)印(yin)字(zi)符的(de)多少變化自動(dong)調控電(dian)(dian)(dian)流(liu)與(yu)電(dian)(dian)(dian)壓(ya)，使之保持電(dian)(dian)(dian)壓(ya)12~36V,電(dian)(dian)(dian)流(liu)0~2A,蝕(shi)刻時間2~3s,蝕(shi)刻深(shen)度0.01~0.10mm,透(tou)明(ming)薄(bo)膜(mo)膜(mo)版(ban)的(de)使用壽命達(da)到上萬次(ci)。據報(bao)道，瑞典(dian)奧斯汀標(biao)(biao)志系統公司(si)在(zai)廣州展示其專利產(chan)品電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)腐蝕(shi)打(da)標(biao)(biao)機，其原理及操(cao)作(zuo)方法與(yu)上述電(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)標(biao)(biao)印(yin)完(wan)全一致。
6. 多層次蝕刻法(fa)
多(duo)層(ceng)次(ci)蝕(shi)刻(ke)法(fa)(fa)是通過系列的(de)抗(kang)蝕(shi)涂(tu)膜和(he)蝕(shi)刻(ke)步驟，獲(huo)得不銹鋼表面不同蝕(shi)刻(ke)深度的(de)花紋圖案(an)的(de)一種工藝方法(fa)(fa)。其工藝步驟為(wei)：
①. 在不(bu)銹鋼表面形成(cheng)第一(yi)層(ceng)次的抗蝕膜(mo)，蝕刻(ke)、去膜(mo)；
②. 在上(shang)述不銹鋼(gang)表(biao)面形成(cheng)第二層次(ci)的抗蝕(shi)膜，再次(ci)蝕(shi)刻(ke)，去膜；
③. 最少有一部分第(di)一層次(ci)和第(di)二(er)層次(ci)的(de)蝕(shi)(shi)刻(ke)圖紋互相覆蓋，使該處(chu)的(de)表面被蝕(shi)(shi)刻(ke)兩次(ci)，形成不(bu)同(tong)蝕(shi)(shi)刻(ke)深度的(de)多(duo)層次(ci)花紋圖案(an)。
