不銹鋼表面浮雕精飾是活化腐蝕與多層電鍍的綜合加工，表面浮雕精飾后的金屬制品圖案清晰，光彩絢麗奪目，層次手感柔和。立體感強。富有金屬鞋刻效果。首先在制筆行業得到大批量應用，收到巨大的經濟效益。
消光鍍鉻底色鍍金(jin)或消光鍍鉻底色銀光浮雕工藝流(liu)程(cheng)如下：
1. 機械磨光、拋光
可按不銹鋼拋(pao)光工藝進行。
①. 拋光(guang)表面要求：無麻點、硬絲路、沖(chong)拉模具痕(hen)及飛邊。
②. 金(jin)剛砂(sha)：磨光(guang)按表面光(guang)潔度需要選用300=、400#、500#金(jin)剛砂(sha)。
③. 拋(pao)光(guang)(guang)膏：磨(mo)光(guang)(guang)用(yong)黃拋(pao)光(guang)(guang)膏，拋(pao)光(guang)(guang)用(yong)綠拋(pao)光(guang)(guang)膏，拉白(bai)光(guang)(guang)亮用(yong)白(bai)拋(pao)光(guang)(guang)膏+維也納石灰(hui)。
④. 拋(pao)磨溫度(du)：不宜過(guo)高，以免使(shi)不銹鋼金相結(jie)構改(gai)變(bian)。
2. 拉毛消光
可用砂輪、皮帶車、噴(pen)砂、鋼絲拋(pao)盤及專用拉絲機(ji)進行拉毛。按不同要求進行消光處理。
3. 化(hua)學除油
磷酸三鈉（Na3 PO4·12H2O) 20~30g/L 、海鷗洗滌劑 2~3mL/L
碳酸鈉（Na2CO3) 10~15g/L 、溫度 90~100℃ 、時間 10~30min
4. 水清洗，并(bing)上掛具
5. 電化學除(chu)油
氫氧(yang)化鈉（NaOH) 10~15g/L 、 平(ping)平(ping)加（勻(yun)染(ran)劑）0.5~1.0g/L 、溫度 80~90℃ 、時間 1~5min
磷酸三鈉（Na3PO4·12H2O) 20~25g/L 、陰極電流密度（DK) 1~3A/d㎡ 、碳酸鈉（Na2CO3) 10~15g/L
6. 水(shui)清洗
7. 電解(jie)活化腐蝕
硫酸（H2SO4) 10~20g/L 、時間 10~30s 、溫度 15~40℃ 、陰極材料 不銹鋼 、陽極電流密度 1~1.5A/d㎡
8. 水清洗
9. 鍍鉻
鉻酐（CrO3) 250~280g/L 、陰極電流密度 25~35A/d㎡ 、硫酸（H2SO4) 2.8~3.0g/L 、時間 1~3min 、溫度 45~50℃
10. 回收(shou)、清洗(xi)
11. 卸掛具，并上(shang)烘(hong)架烘(hong)干
烘(hong)架要求(qiu)易插易取(qu)，互不接觸，并經防銹處理。（烘(hong)干溫度 90~100℃ 、烘(hong)干時間(jian) 10~15min）
12. 絲網漏印
①. 印(yin)刷油(you)墨。
自干型耐腐蝕絲網印(yin)料。由(you)無錫化工研(yan)(yan)究設計院研(yan)(yan)制生產，具備易干、耐酸蝕、成(cheng)膜清晰(xi)均勻、脫除方便的特性。
②. 稀釋(shi)劑
由(you)該(gai)院配套(tao)供應，用以調節印(yin)料(liao)稠度，清理(li)絲網(wang)印(yin)版及工具(ju)。
③. 絲印設備
平(ping)面零(ling)件可類(lei)同普通油印(yin)機，圓柱形(xing)筆桿應選用萬能絲(si)印(yin)機，工作(zuo)原理(li)如圖10-13所示。
13. 上(shang)架烘干
烘(hong)(hong)干溫度 70~90℃ 、烘(hong)(hong)干時間 30~40min
14. 涂敷(fu)封口，修補(bu)絲印
15. 上烘架烘干(gan)
16. 上掛(gua)具
17. 電解活(huo)(huo)化腐蝕(shi)，退除未覆蓋絲印油墨部(bu)分的鉻(ge)層，并活(huo)(huo)化基體表面。
鹽酸(suan)(suan)（d=1.17) 30% 、陽極電流密(mi)度(du)(du) 0.5~2A/d㎡ 、十二烷基(ji)硫酸(suan)(suan)鈉 0.1~0.3g/L 、時間 1~2min 、溫(wen)度(du)(du) 室溫(wen)
18. 水清洗(xi)
19. 閃鍍(du)高氯鎳
氯化鎳（NiCl2·6H2O) 140~180g/L 、鹽酸（HCl)(d=1.17) 100~120g/L 、陰極移動 16~18次／min
時間 30~90s 、溫度(du) 室溫 、陽極(ji)材料(liao) 軋制鎳板，套袋 、陰極(ji)電(dian)流(liu)密度(du) 3~5A/d㎡
20. 流動水清洗(xi)兩次以上，防止氯(lv)離子(zi)大(da)量(liang)進(jin)入亮(liang)銅槽(cao)，認(ren)真徹(che)底(di)清洗(xi)。
21. 鍍酸性光亮銅
為了(le)快(kuai)速加厚浮雕圖案(an)，采用(yong)高濃度、大電(dian)流快(kuai)速沉(chen)積銅，加速陰極(ji)移動。由(you)于圖紋(wen)線條粗(cu)細(xi)疏(shu)密不一，電(dian)鍍時的電(dian)流密度分布不勻，以(yi)粗(cu)密圖案(an)近(jin)陽(yang)板，細(xi)疏(shu)及無圖案(an)處遠離(li)陽(yang)極(ji)，以(yi)防細(xi)疏(shu)圖案(an)DK過大燒(shao)毛。
高酸性銅(tong)液(ye)成分及工(gong)作條件：
硫酸銅（CuSO4·5H2O) 200~240g/L 、硫酸（H2SO4) 55~75g/L 、氯離子（Cl-) 50~80mg/L 、溫度 15~38℃
光亮劑209A 0.5mL/L 、光亮劑209B 0.5mL/L 、光亮劑209C 8mL/L 、陰極電流密(mi)度(du) 1.5~8A/d㎡(按(an)實(shi)際受鍍面積計(ji)算(suan)）
陰極移動 25~30次／min 、時間 銅層(ceng)厚(hou)度達到明顯的浮雕效果(guo)即(ji)可（10~30min)
22. 水清洗
23. 鍍光亮鎳
在普通亮鎳槽中進行，作為中間層，能(neng)使圖案更(geng)絢麗光彩(cai)，并提高防護性和抗(kang)變(bian)色(se)性。鍍亮鎳配方(fang)及(ji)工作條件：
硫酸鎳（NiSO4·7H2O) 280~320g/L 、pH 4~4.8 、氯化鎳（NiCl2·6H2O) 50~60g/L 、溫度 57~62℃
硼酸（H3BO3) 40~45g/L 、陰極電流密度（DK) 2~8A/d㎡(按實際受鍍面積計算） 、 5#A 0.6~0.8mL/L
光(guang)亮劑5#B 5~6mL/L 、時間 2~3min 、潤濕劑LB 1~2mL/L 、陰極(ji)移(yi)動 18~22次／min
24. 水清洗
25. 先消光鍍鉻(ge)底色鍍金
采用(yong)鍍(du)金－鈷(gu)－銦合(he)金，鍍(du)層(ceng)光亮，耐(nai)磨性(xing)高，延長浮雕精飾層(ceng)的使用(yong)壽命。
鍍金(jin)合金(jin)溶液成(cheng)分及工作條件(jian)：
氰化金鉀［KAu(CN)2] 5~8g/L 、檸檬酸鉀（K3C6H5O7) 50~90g/L 、檸檬酸（H3C6H5O7) 40~50g/L 、硫酸鈷（CoSO4·7H2O) 12~15g/L
硫酸銦（InSO4) 1~1.5g/L 、pH 3.5~4.2 、溫度 35~38℃ 、時間 30~90s 、陰極電流密度（DK) 0.5~1.0A/d㎡
陽極 99.99%純金(jin)(jin) （陽極也(ye)可(ke)用不溶性不銹鋼，但要按(an)需(xu)補充(chong)金(jin)(jin)鹽） 、陰(yin)極移動 需(xu)要，可(ke)采(cai)用旋轉陰(yin)極，使金(jin)(jin)層(ceng)更(geng)加均勻
銀光亮浮雕工藝。鍍普(pu)通裝飾鉻，溶液成(cheng)分及工作條件：
鉻酐（CrO3) 250~280g/L 、陰極電流密度 20~28A/d㎡ 、硫酸（H2SO4) 2.5~2.8g/L 、時間 0.5~1.5min 、溫度 45~50℃
26. 回收金或鉻酸，再用水清洗
27. 脫除印料(liao)
弱堿溶(rong)液成分及(ji)工作條(tiao)件：
磷酸三鈉（Na3PO4·12H2O) 10~30g/L 、碳酸鈉（Na2CO3) 5~10g/L 、溫度 40~50℃ 、時間 以自來水能沖盡印料為止
28. 水清(qing)洗，去離子水浸洗
29. 上烘架
30. 烘干
溫(wen)度 60~80℃ 、 時間 10~20min
