不銹鋼管作為油氣開采與運輸過程的重要器件而大量使用,對其進行質量檢測是不銹鋼管(guan)正常生產應用的前提。隨著鋼管連軋工藝的發展鋼管,最大生產節奏達到960支/h,在線檢測最高要求速度達到3m/s,與此相對應的漏磁檢測系統的運行速度也相繼提高。其中,對不銹鋼管缺陷進行精確而不遺漏的標記是檢測結果有效性的重要前提,對缺陷的復查和尋找,以及不銹鋼管的后處理工藝安排具有重要作用。所以,在鋼管高速檢測過程中,缺陷標記系統是不可或缺的組成部分。
一、標記系(xi)統(tong)
假設不銹鋼管檢測(ce)(ce)最高檢測(ce)(ce)速度為3m/,缺陷標記(ji)分辨率(lv)dpx為20mm,則最高標記(ji)頻率(lv)f為
fpr=Vmax/dpx=150Hz(6-17)
也即(ji),為使兩個相隔(ge)20mm的缺陷能(neng)夠(gou)相互獨立標識(shi)且沒(mei)有遺漏,標記系(xi)統(tong)每秒鐘需標記150次,才能(neng)滿足鋼(gang)管高速漏磁檢測的標記要(yao)求。
標(biao)記系(xi)統(tong)工(gong)(gong)作流程(cheng)如(ru)圖6-34所(suo)示。缺陷(xian)產生的(de)漏磁(ci)場被(bei)磁(ci)敏傳感(gan)器(qi)獲(huo)取之(zhi)后(hou)(hou)轉換為(wei)電信(xin)(xin)號,然后(hou)(hou)由A-D采集(ji)卡轉換為(wei)數字(zi)信(xin)(xin)號,進(jin)入計(ji)算(suan)機進(jin)行信(xin)(xin)號后(hou)(hou)處(chu)理(li),輸(shu)出結果與(yu)設(she)置的(de)標(biao)準門(men)(men)限對比,如(ru)果信(xin)(xin)號幅值(zhi)超(chao)過(guo)門(men)(men)限,則判定為(wei)缺陷(xian),并將缺陷(xian)信(xin)(xin)息傳輸(shu)給可編程(cheng)序(xu)控制器(qi)PLC。系(xi)統(tong)根據標(biao)記系(xi)統(tong)與(yu)磁(ci)敏傳感(gan)器(qi)之(zhi)間(jian)的(de)距離以及鋼(gang)管運行速度,經過(guo)準確延時(shi)之(zhi)后(hou)(hou)輸(shu)出高電平(ping)控制電磁(ci)閥工(gong)(gong)作,噴嘴持續(xu)噴出一段(duan)時(shi)間(jian)涂(tu)料之(zhi)后(hou)(hou)停(ting)止,并等待下一次(ci)缺陷(xian)信(xin)(xin)號到來,噴壺標(biao)識(shi)器(qi)如(ru)圖6-35所(suo)示。

為了控制缺陷標(biao)識(shi)精(jing)度(du),標(biao)記(ji)系(xi)統(tong)(tong)需要(yao)精(jing)確(que)(que)控制漏磁(ci)檢(jian)測(ce)探(tan)頭(tou)(tou)與噴嘴之間(jian)的距(ju)離,并根據運行速度(du)進行延(yan)時設(she)置。對于(yu)漏磁(ci)陣(zhen)列探(tan)頭(tou)(tou)檢(jian)測(ce)系(xi)統(tong)(tong),標(biao)記(ji)系(xi)統(tong)(tong)在確(que)(que)定探(tan)頭(tou)(tou)與噴嘴之間(jian)的距(ju)離時,需要(yao)精(jing)確(que)(que)到獨立(li)的傳(chuan)感器單元,尤(you)其是針對條狀探(tan)頭(tou)(tou)。一(yi)般(ban)來說,條狀探(tan)頭(tou)(tou)整體(ti)長度(du)大于(yu)100mm,如果將(jiang)(jiang)其看成一(yi)個(ge)整體(ti),則(ze)標(biao)識(shi)誤差將(jiang)(jiang)大于(yu)100mm。
一個噴(pen)壺(hu)的(de)響應時間(jian)較長,無法滿足標識系統的(de)噴(pen)標頻(pin)率要求。為此,一般采取陣(zhen)列噴(pen)壺(hu)對缺陷進行標記,主要有兩(liang)種布置方案:其(qi)一,噴(pen)槍沿鋼管軸向陣(zhen)列布置;其(qi)二(er),噴(pen)槍沿鋼管周(zhou)向陣(zhen)列布置。
陣列(lie)標記(ji)系統(tong)相對于單噴嘴(zui)標記(ji)系統(tong)具有更高的標記(ji)速度和(he)精度,具有以(yi)下特點(dian):
1)將缺陷信(xin)息(xi)分配給不同噴嘴進行工作(zuo),提(ti)高標識(shi)速度。
2)將連續缺陷信息分(fen)點標(biao)記,可以提高分(fen)辨率,以消除整片連續標(biao)記現象。
3)控制(zhi)器接收到缺陷信息之后,將控制(zhi)空閑的噴嘴(zui)進行(xing)工作。
4)多個噴嘴需要循環使用,以(yi)保(bao)證噴嘴通(tong)暢,防止氣路阻塞和噴嘴堵(du)塞。
5)尋(xun)求最佳(jia)標(biao)識控制方(fang)案以(yi)提高標(biao)識速度和精度,并能(neng)對設備(bei)進行(xing)良(liang)好維護(hu)。
圖(tu)6-36所示為(wei)多(duo)噴(pen)嘴(zui)聯合標記系(xi)統(tong),主要(yao)由(you)多(duo)噴(pen)嘴(zui)組合、涂料壺、升降框架(jia)、控制臺(tai)和(he)升降電動(dong)機構成(cheng)。多(duo)噴(pen)嘴(zui)系(xi)統(tong)采用(yong)8個(ge)噴(pen)嘴(zui)雙排陣(zhen)列組合方式,由(you)8個(ge)電磁閥獨立控制和(he)8個(ge)涂料壺單獨供涂料。由(you)于不(bu)同管(guan)徑(jing)不(bu)銹鋼(gang)管(guan)中(zhong)心高不(bu)同,從而造成(cheng)噴(pen)嘴(zui)與鋼(gang)管(guan)之間的距(ju)離(li)發生改(gai)變。一般距(ju)離(li)越(yue)小,涂料行(xing)程越(yue)小,標識斑點越(yue)小,速度越(yue)快,因(yin)此,噴(pen)嘴(zui)中(zhong)心高需根據鋼(gang)管(guan)規格進行(xing)調整(zheng)。

二、噴槍結構
噴槍(qiang)作為(wei)標(biao)記(ji)系統的執行機構(gou),其(qi)結(jie)構(gou)很大程度上決(jue)定了(le)標(biao)記(ji)系統的性能(neng)。考(kao)慮到標(biao)記(ji)工作現(xian)場特殊環境,如(ru)(ru)高溫、強振動、多灰(hui)塵等,噴槍(qiang)槍(qiang)體做(zuo)成如(ru)(ru)圖6-37所示(shi)的結(jie)構(gou),它可以用于檢測過程中棒材、管材、線(xian)材、板材等金屬(shu)件的快速缺陷標(biao)記(ji)。
圖(tu)6-37所示的噴槍(qiang)具有如下(xia)特點:
1)噴槍(qiang)最(zui)小口徑為0.3mm,最(zui)小噴涂量可達3g/min,可以(yi)較大程度地(di)節(jie)約涂料。
2)使(shi)用圓形(xing)空氣帽可噴出圓形(xing)斑(ban)點,其(qi)形(xing)狀正(zheng)好適用于缺陷標記。
3)帶有(you)拉栓,維護清洗方便,配有(you)物料循環功(gong)能,可(ke)以防止噴(pen)槍堵塞。
4)響(xiang)應速度快,只需(xu)40ms便可(ke)實現啟閉,這是實現高速標記(ji)的關鍵。

三、噴標控(kong)制(zhi)
缺(que)(que)(que)陷標(biao)(biao)(biao)記(ji)是不銹(xiu)鋼管檢測結果的(de)直接體現(xian),高(gao)(gao)精(jing)度和高(gao)(gao)分(fen)辨率(lv)是標(biao)(biao)(biao)記(ji)系(xi)統(tong)的(de)重(zhong)要性能指標(biao)(biao)(biao)。高(gao)(gao)精(jing)度體現(xian)在標(biao)(biao)(biao)記(ji)位(wei)置(zhi)與缺(que)(que)(que)陷位(wei)置(zhi)形成精(jing)確的(de)空間對應;高(gao)(gao)分(fen)辨率(lv)體現(xian)為(wei)缺(que)(que)(que)陷標(biao)(biao)(biao)記(ji)斑點有效(xiao)而且較小,避免大片(pian)連續標(biao)(biao)(biao)記(ji)造(zao)成缺(que)(que)(que)陷難以辨識;而且兩者都(dou)必須建立(li)在無漏標(biao)(biao)(biao)記(ji)的(de)基(ji)礎之上(shang)。高(gao)(gao)速標(biao)(biao)(biao)記(ji)系(xi)統(tong)的(de)實(shi)現(xian)基(ji)礎為(wei)高(gao)(gao)效(xiao)的(de)控制方案和策略,根(gen)據(ju)缺(que)(que)(que)陷信號進行合理有效(xiao)的(de)標(biao)(biao)(biao)記(ji),可使后(hou)處理工(gong)藝更加方便(bian)快捷,以及時反饋鋼管生(sheng)產工(gong)藝中的(de)缺(que)(que)(que)陷。
1. 控制方(fang)法
標(biao)記系統將(jiang)涂料(liao)從(cong)料(liao)筒運送到(dao)涂料(liao)壺(hu),然后經噴嘴標(biao)記到(dao)鋼管上,其氣路(lu)工(gong)作原理如圖6-38所示。

從圖6-38中可以看出,噴(pen)嘴(zui)與磁(ci)敏(min)傳感器(qi)之間存(cun)在(zai)(zai)一(yi)定(ding)的(de)空間距離,即噴(pen)嘴(zui)在(zai)(zai)漏磁(ci)檢測探(tan)頭之后。實(shi)際(ji)工作(zuo)過程中,要求標(biao)記斑(ban)(ban)點與缺(que)陷(xian)(xian)(xian)(xian)位(wei)置(zhi)對應,并且(qie)斑(ban)(ban)點分(fen)辨率(lv)越高越好,以確定(ding)缺(que)陷(xian)(xian)(xian)(xian)的(de)數量。由于兩者存(cun)在(zai)(zai)一(yi)定(ding)空間錯位(wei),缺(que)陷(xian)(xian)(xian)(xian)信號被(bei)處理和(he)判斷后,不(bu)能(neng)立即噴(pen)標(biao),必(bi)須延時一(yi)段時間,以保證(zheng)缺(que)陷(xian)(xian)(xian)(xian)位(wei)置(zhi)與標(biao)記斑(ban)(ban)點對應。為保證(zheng)標(biao)記斑(ban)(ban)點具有(you)可視性(xing),涂(tu)料噴(pen)灑必(bi)須持續(xu)一(yi)段時間。而為了讓缺(que)陷(xian)(xian)(xian)(xian)與缺(que)陷(xian)(xian)(xian)(xian)之間具有(you)可分(fen)辨性(xing),涂(tu)料噴(pen)灑時間又不(bu)能(neng)過長,標(biao)記系統控制方案(an)布局如(ru)圖6-39所(suo)示(shi)。

標記控制信(xin)息(xi)依次經(jing)(jing)過(guo):檢測探頭(tou)(tou)、前置放(fang)大器、采集卡、計算(suan)機、控制器、電(dian)磁閥和噴頭(tou)(tou)。檢測探頭(tou)(tou)將(jiang)漏(lou)磁場量轉換為(wei)模擬量,并(bing)經(jing)(jing)A-D采集卡轉換為(wei)數字(zi)量,通過(guo)USB 總(zong)線輸(shu)入計算(suan)機,在計算(suan)機內進行相(xiang)應(ying)計算(suan)和判斷,如(ru)果信(xin)號(hao)超過(guo)報警門限,則輸(shu)出(chu)缺陷脈沖(chong)信(xin)號(hao),通過(guo)以太網傳(chuan)輸(shu)到(dao)控制器進行處(chu)理。經(jing)(jing)控制器內部(bu)控制指令(ling)延(yan)時,輸(shu)出(chu)控制高電(dian)平(ping)并(bing)延(yan)時一段時間,控制電(dian)磁閥持續(xu)工作,使噴嘴噴灑(sa)涂(tu)料至鋼管表面,并(bing)與缺陷位置相(xiang)對應(ying)。
標記(ji)過程中(zhong),被(bei)檢測鋼管直(zhi)線前進速(su)度為(wei)vn,探頭(tou)中(zhong)心與(yu)噴嘴之(zhi)間(jian)的距離為(wei)Lpr,則缺陷從探頭(tou)處(chu)運(yun)動到(dao)噴嘴位置(zhi)的時間(jian)。為使標記斑點與缺(que)(que)陷位置盡量重合,從漏(lou)磁場處(chu)獲取信(xin)(xin)號開始到(dao)涂(tu)料(liao)噴(pen)灑至鋼管表面為止,該(gai)信(xin)(xin)號傳(chuan)輸(shu)時(shi)(shi)間(jian)(jian)應該(gai)與缺(que)(que)陷運動時(shi)(shi)間(jian)(jian)t相等,其包括:漏(lou)磁信(xin)(xin)號從鋼管缺(que)(que)陷處(chu)傳(chuan)輸(shu)至采(cai)集卡的(de)時(shi)(shi)間(jian)(jian)t1,信(xin)(xin)號從采(cai)集卡通過USB總(zong)線傳(chuan)輸(shu)到(dao)計算機(ji)的(de)時(shi)(shi)間(jian)(jian)t2,計算機(ji)內(nei)信(xin)(xin)號處(chu)理過程時(shi)(shi)間(jian)(jian),缺(que)(que)陷信(xin)(xin)號經(jing)以(yi)太網(wang)進入(ru)可(ke)編程序控制(zhi)器的(de)時(shi)(shi)間(jian)(jian)t4,控制(zhi)器延時(shi)(shi)時(shi)(shi)間(jian)(jian)ts,控制(zhi)器輸(shu)出信(xin)(xin)號至電磁閥(fa)的(de)時(shi)(shi)間(jian)(jian)t6,電磁動作時(shi)(shi)間(jian)(jian)t,以(yi)及(ji)涂(tu)料(liao)從噴(pen)嘴噴(pen)灑到(dao)鋼管表面的(de)時(shi)(shi)間(jian)(jian)t8,并滿足(zu)以(yi)下關(guan)系式
t =t1+t2 +t3+t4+ts+t6+t7+t8 (6-19)
式(6-19)表(biao)明,缺陷(xian)產生的漏(lou)磁信(xin)號從缺陷(xian)處(chu)被采(cai)集到至(zhi)最后涂料(liao)(liao)噴(pen)(pen)灑到鋼(gang)(gang)(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)(mian)(mian)經歷(li)了一個(ge)復雜的信(xin)息傳(chuan)遞過程。其(qi)中(zhong)(zhong),電信(xin)號傳(chuan)輸時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)、USB總線傳(chuan)輸時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)以及以太網傳(chuan)輸時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)可忽略不計,信(xin)號處(chu)理時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)與評判算法(fa)、數據(ju)量和計算機配(pei)置有關,一般用時(shi)(shi)(shi)(shi)也較短。但從電磁閥開始動(dong)作到涂料(liao)(liao)噴(pen)(pen)灑到鋼(gang)(gang)(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)(mian)(mian)的時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)較長,這主要與噴(pen)(pen)嘴(zui)噴(pen)(pen)腔內(nei)氣壓(ya)大小以及噴(pen)(pen)嘴(zui)與鋼(gang)(gang)(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)(mian)(mian)之間(jian)的距離(li)有關。一般情(qing)況下,噴(pen)(pen)嘴(zui)與鋼(gang)(gang)(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)(mian)(mian)距離(li)越近,涂料(liao)(liao)噴(pen)(pen)灑時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)越短,斑點就(jiu)越小。因此(ci),噴(pen)(pen)嘴(zui)中(zhong)(zhong)心高度必(bi)須可調,當更換鋼(gang)(gang)(gang)(gang)管(guan)(guan)規格(ge)時(shi)(shi)(shi)(shi),通過調整噴(pen)(pen)嘴(zui)與鋼(gang)(gang)(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)(mian)(mian)之間(jian)的距離(li)來實(shi)現最好(hao)的標記(ji)效果(guo)。上述所(suo)有時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)中(zhong)(zhong),除了控制器(qi)延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)ts,其(qi)余(yu)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)基本為定值,在調整鋼(gang)(gang)(gang)(gang)管(guan)(guan)運(yun)行速(su)度時(shi)(shi)(shi)(shi),延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)參數t,需(xu)要根據(ju)新的檢測(ce)速(su)度進行調整。
如圖6-40所示,可將(jiang)整個(ge)標(biao)記(ji)過程(cheng)分(fen)為三個(ge)階段:第(di)一階段,磁敏元件拾取到缺(que)陷漏磁場(chang),并(bing)將(jiang)其(qi)轉換為電信號(hao);第(di)二階段,控制器獲取缺(que)陷標(biao)記(ji)信號(hao),并(bing)運行延時指(zhi)令;第(di)三個(ge)階段,延時結(jie)束,控制器輸(shu)出控制指(zhi)令給電磁閥(fa)執行標(biao)記(ji)動(dong)作,噴嘴噴灑(sa)涂料。

2. 控制策略(lve)
單缺(que)(que)陷(xian)單噴嘴模型控(kong)制器輸(shu)(shu)入參(can)數包括(kuo):圖6-40 缺(que)(que)陷(xian)標記(ji)延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)工(gong)作原理(li)缺(que)(que)陷(xian)脈沖信號、標記(ji)開始延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)(shi)間t和標記(ji)持續(xu)延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)(shi)間T,輸(shu)(shu)出參(can)數為(wei)標識輸(shu)(shu)出。控(kong)制器采用(yong)周(zhou)期上(shang)升沿獲取法,定期獲取缺(que)(que)陷(xian)信號,然后根(gen)據設(she)置的兩(liang)個延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)參(can)數進行延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)并輸(shu)(shu)出給電磁閥,內部工(gong)作時(shi)(shi)(shi)(shi)序如圖6-41所示。

當不(bu)銹鋼管上出現(xian)連續缺陷(xian)(xian)時,會出現(xian)以下情(qing)況:前一(yi)個(ge)缺陷(xian)(xian)還(huan)未(wei)開始標(biao)記(ji)或者還(huan)未(wei)標(biao)記(ji)完成,又出現(xian)新的(de)缺陷(xian)(xian),則會產生(sheng)新的(de)缺陷(xian)(xian)被(bei)遺(yi)失標(biao)記(ji)的(de)狀(zhuang)況。所(suo)以,為(wei)達到所(suo)有缺陷(xian)(xian)都能準確標(biao)識(shi)而不(bu)出現(xian)遺(yi)漏,需要(yao)設置多個(ge)參(can)數來儲(chu)存缺陷(xian)(xian)信息,并按照先進先出的(de)原則進行(xing)標(biao)記(ji)。為(wei)此,設置N個(ge)定時器,每個(ge)定時器輸出為(wei)Out,多個(ge)電磁閥(fa)工作時序如圖6-42所(suo)示(shi)。
整個定時器(qi)系統(tong)遵循以下規則:
1)如(ru)果定(ding)時器i沒有工作,則(ze)由i定(ding)時器執行延時指令。
2)如果定時(shi)(shi)器i正在執行(xing)延(yan)時(shi)(shi)指令,則由定時(shi)(shi)器i+1進(jin)行(xing)延(yan)時(shi)(shi)。
3)系(xi)統輸(shu)(shu)出為所有定時器(qi)輸(shu)(shu)出的(de)疊加(Out=Outl +Out2 +··+OutN)。
根據上述(shu)設定原則(ze),如果(guo)上一個缺(que)陷(xian)(xian)(xian)被捕獲但還未輸出,緊(jin)接著又出現一個缺(que)陷(xian)(xian)(xian)脈沖(chong),系統將對缺(que)陷(xian)(xian)(xian)信號進行保持(chi)。從而(er)當出現連續缺(que)陷(xian)(xian)(xian)時(shi),系統便(bian)會全部(bu)捕捉,而(er)不會遺漏。其執行流程(cheng)和結果(guo)如圖(tu)6-43所示。
在如圖(tu)6-43所(suo)示(shi)(shi)過程中,一(yi)個標(biao)(biao)記(ji)(ji)周(zhou)期內(nei)連(lian)續出(chu)現(xian)三個缺陷(xian),分別由三個定時(shi)器進(jin)行上升(sheng)沿捕獲,然(ran)后分別延時(shi),共同(tong)輸(shu)出(chu),因此(ci)三個連(lian)續缺陷(xian)點的標(biao)(biao)記(ji)(ji)效果(guo)為一(yi)條(tiao)(tiao)連(lian)續的標(biao)(biao)記(ji)(ji)線,而不(bu)會出(chu)現(xian)遺漏標(biao)(biao)記(ji)(ji)的情況。然(ran)而,不(bu)同(tong)位置的缺陷(xian)產生了(le)一(yi)條(tiao)(tiao)連(lian)續標(biao)(biao)記(ji)(ji)線,雖(sui)然(ran)沒有出(chu)現(xian)遺漏,但是標(biao)(biao)記(ji)(ji)分辨(bian)率降低了(le),遺失了(le)精確(que)的對(dui)應關系。為提高標(biao)(biao)記(ji)(ji)精確(que)度,將條(tiao)(tiao)狀探頭(tou)內(nei)部(bu)檢測元件獨(du)立分類,分別設置不(bu)同(tong)的延時(shi)周(zhou)期,并采用多噴(pen)嘴(zui)進(jin)行標(biao)(biao)記(ji)(ji),多噴(pen)嘴(zui)標(biao)(biao)記(ji)(ji)控制(zhi)模型(xing)如圖(tu)6-44所(suo)示(shi)(shi)。


多(duo)噴嘴標記模(mo)型是一個(ge)多(duo)輸(shu)入多(duo)輸(shu)出的控制(zhi)模(mo)型,其(qi)輸(shu)出主要(yao)為8個(ge)噴嘴,而其(qi)輸(shu)入主要(yao)有如下(xia)三類(lei):
1)缺陷脈沖(chong)(chong)(chong):不同檢測元件(jian)發(fa)出的缺陷脈沖(chong)(chong)(chong),同一檢測元件(jian)不同時刻(ke)發(fa)出的缺陷脈沖(chong)(chong)(chong)。
2)標記開始(shi)延時:由于不(bu)(bu)(bu)同(tong)位置檢測(ce)元件與(yu)噴嘴之間的距離不(bu)(bu)(bu)同(tong),因而延時時間不(bu)(bu)(bu)同(tong)。
3)標記持續(xu)延時:所(suo)有噴嘴采用相(xiang)同(tong)(tong)的標記持續(xu)延時時間,從而(er)產生相(xiang)同(tong)(tong)大小的斑點。
不(bu)(bu)同檢(jian)測(ce)元(yuan)件對應不(bu)(bu)同的延時(shi)器,并產生不(bu)(bu)同的控(kong)制(zhi)指令去(qu)驅動8個噴嘴。整個控(kong)制(zhi)過程遵循以下原則:
1)噴嘴(zui)(zui)循環使(shi)用(yong),上(shang)一(yi)次控制(zhi)噴嘴(zui)(zui)i進行標(biao)記(ji),下次將控制(zhi)噴嘴(zui)(zui)i+1工作(zuo);如(ru)果是第(di)(di)8號噴嘴(zui)(zui)正在工作(zuo),則下一(yi)個由第(di)(di)1號噴嘴(zui)(zui)工作(zuo)。保證每個噴嘴(zui)(zui)循環使(shi)用(yong),防止油(you)路堵(du)塞。
2)每(mei)個檢測元件(jian)獨立設置N個定時器,并保存(cun)相同的標記開(kai)始延時參數。
3)由于(yu)噴(pen)(pen)嘴分(fen)兩排(pai)(pai),如(ru)果正(zheng)在指定后排(pai)(pai)噴(pen)(pen)嘴工(gong)作,則后排(pai)(pai)噴(pen)(pen)嘴自動延長相應時間再進行(xing)標記。
3. 標記誤(wu)差
在不(bu)銹(xiu)鋼(gang)管(guan)(guan)漏磁檢(jian)測中,通常施加周向局部磁化激發縱向缺陷漏磁場。為實(shi)現鋼(gang)管(guan)(guan)全覆蓋檢(jian)測,探頭與鋼(gang)管(guan)(guan)之間往往通過形成(cheng)螺(luo)旋(xuan)掃查(cha)方式完(wan)成(cheng)全覆蓋檢(jian)測。同樣,噴嘴在鋼(gang)管(guan)(guan)表面(mian)形成(cheng)的軌跡也為螺(luo)旋(xuan)線。
假設不(bu)銹鋼管外徑為(wei)d1,掃查螺距(ju)為(wei)P,檢測探頭(tou)(tou)為(wei)雙探頭(tou)(tou),探頭(tou)(tou)有效檢測長度為(wei)l,標記(ji)(ji)系統(tong)為(wei)單標記(ji)(ji)系統(tong),探頭(tou)(tou)中心與標記(ji)(ji)系統(tong)軸(zhou)向距(ju)離為(wei)Lpr,系統(tong)理論標記(ji)(ji)誤差為(wei)leror。探頭(tou)(tou)及標記(ji)(ji)器布置如圖6-45所(suo)示。
將不銹鋼管沿軸線展開,得到探頭掃查平面(mian)圖(圖6-46),并獲得不同情況下的標記誤差(cha)leror,見表6-5。

通過表6-5可以看出(chu),標(biao)(biao)(biao)記(ji)系統(tong)的(de)確存在理(li)論標(biao)(biao)(biao)記(ji)誤差。提高標(biao)(biao)(biao)記(ji)精(jing)度的(de)方法(fa)主要有兩種(zhong),一(yi)種(zhong)方法(fa)是增加標(biao)(biao)(biao)記(ji)器(qi)數量,另一(yi)種(zhong)方法(fa)是提高條(tiao)狀探頭內(nei)部傳感元件(jian)(jian)的(de)分辨率,按照探頭內(nei)部檢測(ce)元件(jian)(jian)的(de)空間位置采用獨(du)立(li)的(de)延(yan)時參數來降低標(biao)(biao)(biao)記(ji)誤差。如(ru)果將噴(pen)壺沿著圓(yuan)周均(jun)勻(yun)布置N1個噴(pen)嘴,并(bing)且將條(tiao)狀探頭內(nei)部檢測(ce)元件(jian)(jian)分為(wei)2等(deng)份(fen),則相應的(de)標(biao)(biao)(biao)記(ji)誤差最(zui)大值(zhi)為(wei): V'emor=lerror/N1N2(6-21)

