不銹鋼發黑工藝是一門年輕的技術。該工藝于1970年出現于日本,1972年英國開始用于工業,1973年有譯文介紹于國內,1974年日本公布了不銹鋼化學發黑實用專利。我國從1976年開始實驗研究,至1983年由廠家從小試轉入工業生產取得了較為滿意的結果。



1. 不銹(xiu)鋼著黑色(se)的方法分類


a. 化學著(zhu)黑色法(fa)


  又分酸性(xing)著(zhu)黑(hei)色(se)法(fa)和(he)堿性(xing)著(zhu)黑(hei)色(se)法(fa)。酸性(xing)著(zhu)黑(hei)色(se)法(fa)得(de)到(dao)的(de)膜層(ceng)色(se)澤均勻(yun),薄而牢固(gu),富有彈性(xing),結合力好,但膜層(ceng)多孔,耐磨性(xing)較差,要(yao)經過固(gu)化處(chu)理才能提高(gao)耐磨性(xing)。堿性(xing)著(zhu)黑(hei)色(se)法(fa)的(de)著(zhu)色(se)時間比較長,但黑(hei)膜的(de)耐磨性(xing)很(hen)好,無需(xu)固(gu)化處(chu)理。


b. 電解氧化法


  膜層厚而黑,膜層耐曬性較差,易自動爆(bao)裂(lie)。


c. 化學(xue)熱(re)處理法(fa)


  需采用專(zhuan)用設(she)備和投資,屬熱處理范(fan)疇。



2. 對發黑(hei)零件的要求


 a. 對材料成分要求

 

 黑色氧化色澤與不銹鋼材(cai)料有關(guan)。化學著黑色適用范圍如下:


  ①. 鉻不銹鋼(gang):如1Cr13、1Cr17、2Cr13、3Cr13、4Cr13等(deng)。


  ②. 鉻鎳(nie)不銹鋼:如1Cr18Ni9Ti、0Cr18Ni9等。


  ③. 鎳鉻(ge)鉬(mu)不(bu)銹鋼:如Cr18Ni12Mo2Ti.


  ④. 其他鎳鉻含量較高的不(bu)銹鋼。


  ⑤. 不(bu)適用于無鉻(ge)只含鎳的不(bu)銹鋼(gang),如Ni18、Ni45等。


  ⑥. 無鎳(nie)而(er)鉻低于(yu)13%以下的不(bu)銹鋼。


 b. 表(biao)面加工狀態


  和(he)表(biao)面光(guang)亮度有關。光(guang)亮度不好,達不到(dao)(dao)黑(hei)色(se)表(biao)面。如(ru)車銑加工只能達到(dao)(dao)藍(lan)色(se)、深藍(lan)色(se)、紫(zi)藍(lan)色(se)。磨(mo)床加工表(biao)面可達到(dao)(dao)深藍(lan)色(se)或(huo)黑(hei)色(se)。經320#金剛砂噴砂、研磨(mo)、電化學拋光(guang)、化學拋光(guang)后(hou)的(de)表(biao)面可得到(dao)(dao)均(jun)勻(yun)的(de)純黑(hei)色(se)。



3. 不(bu)銹鋼化(hua)學發黑的應用(yong)范(fan)圍


 a. 適(shi)用(yong)于光學儀器零(ling)件的消光處理。


 b. 適用于海洋艦船用,在濕熱高(gao)腐蝕氣(qi)候環境(jing)的(de)惡劣條件(jian)下使用的(de)光學(xue)儀器中不銹鋼零件(jian)的(de)消光處理。




4. 化學著(zhu)黑色(se)膜層的物理與化學性能(neng)


 a. 反射率


 膜層對(dui)光線的反(fan)射率(lv)很低(di)(di),經(jing)320#金剛砂(sha)(sha)噴(pen)砂(sha)(sha)后的膜層反(fan)射率(lv)更低(di)(di)。


b. 結合力(li)


  結合力較好,不亞于碳(tan)鋼氧化(hua)膜。只有用刀片刮方能使膜層刮落(luo)。


c. 抗腐蝕性


  耐候性實驗(yan):將有發黑膜(mo)的零件(jian)(jian)置于電鍍車間惡(e)劣(lie)的含(han)有鹽酸氣體的環境中,經數年的暴(bao)露無(wu)腐蝕(shi)斑出現(xian),而(er)與此同(tong)時,無(wu)黑膜(mo)的不銹鋼(gang)零件(jian)(jian)做對比(bi)實驗(yan)觀(guan)察(cha)到蝕(shi)斑現(xian)象(xiang),表明黑膜(mo)的耐候性優良(liang)。


  抗鹽酸(suan)溶(rong)液的(de)實驗:在10%鹽酸(suan)溶(rong)液中,25℃,浸5 分(fen)(fen)鐘,黑(hei)膜無(wu)變化;在20%鹽酸(suan)溶(rong)液中浸5 分(fen)(fen)鐘,黑(hei)膜黑(hei)色略變淺,但未露出(chu)基體。