電化學拋光是以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩電極同時浸入電化學拋光槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，陽極表面光亮度增大，這種過程與電鍍過程正好相反。

 電化學拋光機理－黏性薄膜理論如下。拋光主要是陽極電極過程和表面磷酸鹽膜共同作用的結果。從陽極溶解下來的金屬離子與拋光液中的磷酸形成溶解度小，黏性大、擴散速率小的磷酸鹽，并慢慢地積累在陽極附近，粘接在陽極表面，形成了黏滯性較大的電解液層。密度大、導電能力差的黏膜在微觀表面上分布不均勻，從而影響了電流密度在陽極上的分布。很明顯，黏膜在微觀凸起處比凹洼處的厚度小，使凸起處的電流密度較高而溶解速率較快。隨著黏膜的流動，凸凹位置的不斷變換，粗糙表面逐漸整平。不銹鋼表面因此被拋光達到高度光潔和光澤的外觀。

 由此可見，溶液濃度(du)(du)和黏(nian)度(du)(du)是(shi)個(ge)重要(yao)(yao)因素，特(te)別是(shi)溶液的(de)黏(nian)度(du)(du)，往(wang)往(wang)表現在新(xin)配的(de)拋(pao)光(guang)液雖然組分(fen)濃度(du)(du)達到(dao)了要(yao)(yao)求，但由于黏(nian)度(du)(du)尚未達到(dao)要(yao)(yao)求而拋(pao)不光(guang)，只有(you)在經過(guo)(guo)一段時間的(de)電解后(hou)(hou)(hou)才(cai)開始拋(pao)光(guang)良好。特(te)別是(shi)溶液與零件的(de)界面(mian)濃度(du)(du)和黏(nian)度(du)(du)，在拋(pao)光(guang)中起著(zhu)重要(yao)(yao)作用。這就是(shi)為什(shen)么要(yao)(yao)求零件在進(jin)入拋(pao)光(guang)液前表面(mian)水(shui)(shui)膜要(yao)(yao)均勻(yun)，否則(ze)零件表面(mian)帶水(shui)(shui)膜的(de)不均勻(yun)性(xing)，破壞(huai)了黏(nian)膜的(de)正常生成(cheng)，發生局部(bu)過(guo)(guo)腐蝕現象。水(shui)(shui)洗(xi)后(hou)(hou)(hou)的(de)零件最好甩干后(hou)(hou)(hou)迅速下槽，這樣通電拋(pao)光(guang)后(hou)(hou)(hou)，表面(mian)過(guo)(guo)腐蝕現象即可避免。

 電化(hua)(hua)學拋(pao)光(guang)還不能完全取代機械拋(pao)光(guang)。電化(hua)(hua)學拋(pao)光(guang)只是對金(jin)屬(shu)表面(mian)上起(qi)微觀整平作(zuo)用。宏觀的(de)(de)整平要靠機械拋(pao)光(guang)。電化(hua)(hua)學拋(pao)光(guang)對材料(liao)化(hua)(hua)學成分的(de)(de)不均(jun)勻性(xing)和顯微偏析特(te)別敏(min)感，使金(jin)屬(shu)基體和非金(jin)屬(shu)夾雜物之間常被劇(ju)烈浸蝕(shi)，有(you)時(shi)，有(you)不良的(de)(de)冶金(jin)狀態，金(jin)屬(shu)晶粒尺寸結構(gou)的(de)(de)不均(jun)勻性(xing)、軋制痕跡、鹽類或氧化(hua)(hua)物的(de)(de)污染、酸洗過度(du)以及淬(cui)火(huo)過度(du)等(deng)均(jun)會對電化(hua)(hua)學拋(pao)光(guang)產生不良影響。這些(xie)缺陷(xian)常常要靠先(xian)期(qi)的(de)(de)機械拋(pao)光(guang)來彌補。

電(dian)化學拋光(guang)與手工(gong)機械(xie)拋光(guang)相(xiang)比(bi)，能發(fa)揮下列優(you)點(dian)：

 ①. 產品內外色澤一(yi)致，清潔光(guang)亮，光(guang)澤持久，外觀輪廓(kuo)清晰；

 ②. 螺(luo)紋中的毛刺(ci)在(zai)電解過程中溶解脫落，螺(luo)紋間配合松滑，防止螺(luo)紋間咬時(shi)的咬死現(xian)象(xiang)；

 ③. 拋光面抗腐(fu)蝕性能增強；

 ④. 與機械拋(pao)光(guang)相(xiang)比(bi)，生產效率(lv)高(gao)，生產成本低。