評定香蕉視頻app連接:氫脆的(de)實(shi)驗方法有以下(xia)幾種(zhong)。
1. 彎曲次數法(fa)
應用板狀試樣(yang)，在特制的(de)夾具上(shang)對試樣(yang)進行(xing)一定角度的(de)彎曲(qu)（通常是(shi)120°)直至試樣(yang)斷裂，記(ji)下(xia)彎曲(qu)的(de)總(zong)次數n,脆(cui)性系數α可(ke)表(biao)示如下(xia)：
式中：n空為不含氫(qing)彎曲(qu)至斷裂的(de)(de)次(ci)數；n氫(qing)為充氫(qing)彎曲(qu)至斷裂的(de)(de)次(ci)數。
當a=0時(shi)，說明金屬對氫脆不敏(min)感(gan)；而當a=1時(shi)，則極為(wei)敏(min)感(gan)。
2. 斷面(mian)收縮率(lv)法
應用拉(la)伸試樣(yang)，在(zai)一定的拉(la)伸速(su)率(lv)下，測量試樣(yang)斷(duan)裂時的斷(duan)面收縮率(lv)ψ,其脆性系(xi)數可(ke)表示(shi)為：
式中：ψ0為(wei)空白試(shi)(shi)樣(yang)的(de)(de)斷(duan)面(mian)收(shou)縮率；ψ為(wei)含氫(qing)試(shi)(shi)樣(yang)的(de)(de)斷(duan)面(mian)收(shou)縮率；α在(zai)0~1之間變化，α越(yue)小，說明氫(qing)脆敏感性越(yue)小。
3. 慢應變速率拉伸法
此(ci)方法(fa)詳見1.4.4小節。
4. 氫滲透法
目前，多采用(yong)Devnathan-Stachurski 雙(shuang)電(dian)解(jie)池技術來(lai)測量腐蝕過程中(zhong)氫(qing)(qing)的(de)(de)(de)滲(shen)透(tou)(tou)量。它(ta)是(shi)由作(zuo)(zuo)(zuo)為雙(shuang)面電(dian)極的(de)(de)(de)金屬(shu)所構(gou)成的(de)(de)(de)兩個電(dian)解(jie)池構(gou)成的(de)(de)(de)，金屬(shu)的(de)(de)(de)一(yi)(yi)面作(zuo)(zuo)(zuo)為陰(yin)極池，一(yi)(yi)面作(zuo)(zuo)(zuo)為陽極池。陰(yin)極池內發生(sheng)析氫(qing)(qing)反應，產生(sheng)的(de)(de)(de)氫(qing)(qing)原子滲(shen)透(tou)(tou)過金屬(shu)試(shi)樣(yang)在陽極池被(bei)氧(yang)化(hua)為氫(qing)(qing)離(li)子，用(yong)記錄儀測得(de)(de)氧(yang)化(hua)電(dian)流(liu)，即氫(qing)(qing)滲(shen)透(tou)(tou)電(dian)流(liu)的(de)(de)(de)大(da)(da)小，作(zuo)(zuo)(zuo)出(chu)它(ta)隨時間的(de)(de)(de)變化(hua)關(guan)系圖(tu)，通過對電(dian)流(liu)一(yi)(yi)時間曲線下的(de)(de)(de)面積進行積分(fen)計算，可得(de)(de)到氫(qing)(qing)滲(shen)透(tou)(tou)量。改變陰(yin)極池電(dian)解(jie)質的(de)(de)(de)濃度和外加(jia)電(dian)位的(de)(de)(de)大(da)(da)小，作(zuo)(zuo)(zuo)出(chu)濃度、電(dian)位與氫(qing)(qing)滲(shen)透(tou)(tou)電(dian)流(liu)的(de)(de)(de)關(guan)系圖(tu)。此方法較直觀，能(neng)夠較準確地測得(de)(de)金屬(shu)中(zhong)的(de)(de)(de)氫(qing)(qing)滲(shen)透(tou)(tou)情況，以此來(lai)評價金屬(shu)發生(sheng)氫(qing)(qing)脆的(de)(de)(de)可能(neng)性。
一些研究者利用氯滲透法進行了相關的研究。張學元等人研究得出了16Ma鋼在硫化氫溶液中的穩態氯滲透電流IH和H2S濃度的關系，并認為溫度對硫化氫擴散的影響主要表現在擴散系數上。氫在金屬中的擴散速率受陷阱位置控制，取決于陷阱的大小和分布，氫與陷阱的結合能的大小等。
