金屬(shu)及其(qi)合金的(de)(de)(de)應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐(fu)蝕開(kai)裂(lie)已(yi)被(bei)廣(guang)泛研究(jiu)，研究(jiu)應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐(fu)蝕的(de)(de)(de)最基(ji)本問題是(shi)探索裂(lie)紋(wen)起源、擴展(zhan)(zhan)的(de)(de)(de)原(yuan)因(yin)和(he)(he)過程。目前，已(yi)經在(zai)(zai)研究(jiu)裂(lie)紋(wen)尖端化學(xue)和(he)(he)電(dian)化學(xue)狀態、應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)強度與裂(lie)紋(wen)擴展(zhan)(zhan)速(su)率的(de)(de)(de)關系、氫(qing)在(zai)(zai)裂(lie)紋(wen)擴展(zhan)(zhan)中的(de)(de)(de)地位(wei)、應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)和(he)(he)應(ying)(ying)(ying)變速(su)率的(de)(de)(de)作(zuo)用等(deng)方面(mian)取得了很(hen)大進(jin)展(zhan)(zhan)。已(yi)經提出的(de)(de)(de)應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐(fu)蝕開(kai)裂(lie)機理有陽極(ji)溶(rong)解型(xing)機理和(he)(he)氫(qing)致(zhi)開(kai)裂(lie)型(xing)機理兩(liang)大類(lei)。在(zai)(zai)這兩(liang)類(lei)機理的(de)(de)(de)基(ji)礎(chu)上又發展(zhan)(zhan)了表面(mian)膜破裂(lie)理論(lun)(lun)、活性通(tong)道理論(lun)(lun)、應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)吸附開(kai)裂(lie)理論(lun)(lun)、腐(fu)蝕產物楔人理論(lun)(lun)、閉塞電(dian)池(chi)理論(lun)(lun)、以(yi)機械開(kai)裂(lie)為主的(de)(de)(de)兩(liang)段論(lun)(lun)及開(kai)裂(lie)三階(jie)段理論(lun)(lun)等(deng)。應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐(fu)蝕是(shi)一(yi)個非(fei)常復雜的(de)(de)(de)問題，裂(lie)紋(wen)只(zhi)是(shi)其(qi)形式的(de)(de)(de)一(yi)種，造(zao)成裂(lie)紋(wen)的(de)(de)(de)原(yuan)因(yin)和(he)(he)裂(lie)紋(wen)進(jin)展(zhan)(zhan)過程在(zai)(zai)不同條件下也不同，所以(yi)很(hen)多時候不能只(zhi)用一(yi)種理論(lun)(lun)來解釋。以(yi)下將簡要介紹應(ying)(ying)(ying)力(li)(li)腐(fu)蝕的(de)(de)(de)相關機理。
一(yi)、陽極(ji)溶解機理
陽極(ji)(ji)(ji)(ji)溶(rong)解(jie)理(li)(li)論(lun)(lun)是由(you)T.P.Hoar和(he)(he) J.G.Hines提出的(de)(de)(de)。本(ben)理(li)(li)論(lun)(lun)認(ren)為，在(zai)應力和(he)(he)腐(fu)蝕(shi)(shi)(shi)的(de)(de)(de)聯合作用(yong)下(xia)，局(ju)部位(wei)置上(shang)產(chan)生(sheng)了微裂(lie)(lie)紋。這時金(jin)屬(shu)的(de)(de)(de)整個(ge)表(biao)面(mian)是陰極(ji)(ji)(ji)(ji)區(qu)，裂(lie)(lie)紋的(de)(de)(de)側面(mian)和(he)(he)尖端組成(cheng)(cheng)了陽極(ji)(ji)(ji)(ji)區(qu)，產(chan)生(sheng)了大陰極(ji)(ji)(ji)(ji)、小陽極(ji)(ji)(ji)(ji)的(de)(de)(de)電化(hua)學腐(fu)蝕(shi)(shi)(shi)。應力腐(fu)蝕(shi)(shi)(shi)是由(you)裂(lie)(lie)紋尖端的(de)(de)(de)快(kuai)速陽極(ji)(ji)(ji)(ji)溶(rong)解(jie)所引起的(de)(de)(de)，裂(lie)(lie)紋的(de)(de)(de)側面(mian)由(you)于有(you)(you)表(biao)面(mian)膜等(deng)，使得側面(mian)方向(xiang)上(shang)的(de)(de)(de)溶(rong)解(jie)受到(dao)了抑制，從而比裂(lie)(lie)紋尖端處(chu)的(de)(de)(de)溶(rong)解(jie)速率(lv)要小得多，這就(jiu)保(bao)證裂(lie)(lie)紋能像剪刀似地向(xiang)前(qian)擴(kuo)展。這種(zhong)理(li)(li)論(lun)(lun)最適(shi)用(yong)于自鈍(dun)(dun)化(hua)金(jin)屬(shu)。由(you)于裂(lie)(lie)紋兩側受到(dao)鈍(dun)(dun)化(hua)膜保(bao)護，更顯示出裂(lie)(lie)紋尖端的(de)(de)(de)快(kuai)速溶(rong)解(jie)，隨著(zhu)裂(lie)(lie)紋向(xiang)前(qian)推進，裂(lie)(lie)紋兩側的(de)(de)(de)金(jin)屬(shu)將重新發(fa)生(sheng)鈍(dun)(dun)化(hua)（即再鈍(dun)(dun)化(hua)），因(yin)此這種(zhong)理(li)(li)論(lun)(lun)與(yu)膜的(de)(de)(de)再鈍(dun)(dun)化(hua)過程有(you)(you)密切聯系(xi)。如果再鈍(dun)(dun)化(hua)太快(kuai)，就(jiu)不會產(chan)生(sheng)裂(lie)(lie)縫的(de)(de)(de)進一(yi)步腐(fu)蝕(shi)(shi)(shi)；如果再鈍(dun)(dun)化(hua)太慢，裂(lie)(lie)縫尖部將變圓而形(xing)成(cheng)(cheng)活(huo)性較低的(de)(de)(de)蝕(shi)(shi)(shi)孔。只有(you)(you)當裂(lie)(lie)縫中鈍(dun)(dun)化(hua)膜破裂(lie)(lie)和(he)(he)再鈍(dun)(dun)化(hua)過程處(chu)于某種(zhong)同步條(tiao)件下(xia)才能使裂(lie)(lie)紋向(xiang)縱深發(fa)展，可(ke)以設想有(you)(you)一(yi)個(ge)使裂(lie)(lie)縫進展狹小的(de)(de)(de)再鈍(dun)(dun)化(hua)時間的(de)(de)(de)范(fan)圍。陽極(ji)(ji)(ji)(ji)溶(rong)解(jie)理(li)(li)論(lun)(lun)是傳統(tong)的(de)(de)(de)應力腐(fu)蝕(shi)(shi)(shi)機(ji)理(li)(li)，關于它(ta)的(de)(de)(de)研(yan)究比較多。
二(er)、氫致開裂機理
近年(nian)來，應(ying)力(li)腐蝕的(de)(de)吸(xi)氫(qing)脆(cui)(cui)變(bian)理論(lun)研(yan)究取得了(le)較大的(de)(de)進展。該(gai)理論(lun)認為，由(you)于腐蝕的(de)(de)陰極(ji)反(fan)應(ying)產生(sheng)氫(qing)，氫(qing)原子(zi)擴散(san)到(dao)裂(lie)縫尖端金屬(shu)內(nei)部(bu)，使這一區域變(bian)脆(cui)(cui)，在拉應(ying)力(li)作(zuo)用(yong)下脆(cui)(cui)斷(duan)。此理論(lun)幾乎一致的(de)(de)意見是：在應(ying)力(li)腐蝕破裂(lie)中(zhong)，氫(qing)起了(le)重(zhong)要的(de)(de)作(zuo)用(yong)。由(you)于海洋(yang)結構用(yong)鋼(gang)(gang)(gang)在腐蝕很強的(de)(de)海洋(yang)大氣環境中(zhong)，在金屬(shu)表面容易(yi)發生(sheng)陰極(ji)析(xi)氫(qing)反(fan)應(ying)，造成氫(qing)在鋼(gang)(gang)(gang)鐵(tie)表面的(de)(de)吸(xi)附及向(xiang)內(nei)部(bu)的(de)(de)擴散(san)，使鋼(gang)(gang)(gang)鐵(tie)結構脆(cui)(cui)變(bian)；同時，在交變(bian)載荷作(zuo)用(yong)下，鋼(gang)(gang)(gang)鐵(tie)結構很容易(yi)發生(sheng)由(you)氫(qing)脆(cui)(cui)造成的(de)(de)斷(duan)裂(lie)，危(wei)害(hai)巨大，氫(qing)致開(kai)裂(lie)的(de)(de)具(ju)體機理將在以后重(zhong)點介紹。
三(san)、表面膜破裂機理
在腐蝕介質中，金(jin)(jin)屬(shu)表(biao)(biao)面(mian)形成(cheng)具有保(bao)護(hu)(hu)能力的(de)(de)(de)(de)表(biao)(biao)面(mian)膜，此(ci)膜在應(ying)力作(zuo)(zuo)用(yong)下引起破壞或減弱，結果(guo)暴露出新鮮表(biao)(biao)面(mian)。此(ci)新鮮表(biao)(biao)面(mian)在電解質溶液中成(cheng)為陽極，它(ta)與陰極具有表(biao)(biao)面(mian)膜的(de)(de)(de)(de)金(jin)(jin)屬(shu)其余表(biao)(biao)面(mian)組成(cheng)一個(ge)大面(mian)積陰極和小面(mian)積陽極的(de)(de)(de)(de)腐蝕電池；陽極部位產(chan)生(sheng)坑蝕，進(jin)而萌(meng)生(sheng)裂(lie)紋(wen)。表(biao)(biao)面(mian)膜破裂(lie)是由多種(zhong)因素造成(cheng)的(de)(de)(de)(de)，如機(ji)械損傷。在應(ying)力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)用(yong)下表(biao)(biao)面(mian)膜的(de)(de)(de)(de)破壞可以用(yong)滑移階(jie)梯來解釋(shi)。金(jin)(jin)屬(shu)在應(ying)力的(de)(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)用(yong)下產(chan)生(sheng)塑(su)性變形就是金(jin)(jin)屬(shu)中的(de)(de)(de)(de)位錯沿滑移面(mian)的(de)(de)(de)(de)運動，結果(guo)在表(biao)(biao)面(mian)匯合處出現(xian)滑移階(jie)梯，如果(guo)表(biao)(biao)面(mian)的(de)(de)(de)(de)保(bao)護(hu)(hu)膜不(bu)能隨著(zhu)階(jie)梯發生(sheng)相應(ying)的(de)(de)(de)(de)變化，表(biao)(biao)面(mian)膜就要(yao)被破壞。
四、活性通道理論
活(huo)性(xing)通道(dao)(dao)理論是由(you)迪克斯、米(mi)爾斯和布(bu)朗(lang)等人最先(xian)(xian)提出(chu)(chu)的(de)，他(ta)們認為，在發生(sheng)應力(li)腐(fu)蝕(shi)開(kai)裂的(de)金(jin)屬或(huo)合金(jin)中存在著(zhu)一條(tiao)易于(yu)(yu)腐(fu)蝕(shi)、基本上是連(lian)續的(de)通道(dao)(dao)，沿(yan)(yan)著(zhu)這(zhe)條(tiao)活(huo)性(xing)通道(dao)(dao)優先(xian)(xian)發生(sheng)陽(yang)極(ji)溶解。活(huo)性(xing)通道(dao)(dao)可由(you)以下一些不同的(de)原(yuan)(yuan)因構成(cheng)：①. 合金(jin)成(cheng)分和顯微(wei)結構上的(de)差異，如多相(xiang)合金(jin)和晶界的(de)析出(chu)(chu)物等；②. 溶質原(yuan)(yuan)子可能析出(chu)(chu)的(de)高度無序晶界或(huo)亞晶界；③. 由(you)于(yu)(yu)局部應力(li)集中及由(you)此產生(sheng)的(de)應變引起的(de)陽(yang)極(ji)晶界面；④. 由(you)于(yu)(yu)應變引起表面膜的(de)局部破裂；⑤. 由(you)于(yu)(yu)塑性(xing)變形引起的(de)陽(yang)極(ji)區(qu)等。在腐(fu)蝕(shi)環境(jing)中，當活(huo)性(xing)通道(dao)(dao)與(yu)周圍的(de)主體(ti)金(jin)屬建立起腐(fu)蝕(shi)電池(chi)時(shi)，電化學腐(fu)蝕(shi)就沿(yan)(yan)著(zhu)這(zhe)條(tiao)路線進(jin)行。
局(ju)部電化學(xue)溶解(jie)(jie)將(jiang)形(xing)成(cheng)(cheng)很窄的(de)裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)，而外(wai)加應力使裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)頂端應力集中產(chan)生(sheng)(sheng)(sheng)局(ju)部塑性(xing)變(bian)形(xing)，然后引起表(biao)面膜撕裂(lie)。裸露(lu)的(de)金(jin)(jin)屬(shu)成(cheng)(cheng)為新的(de)陽極(ji)，而裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)兩(liang)側仍有表(biao)面膜保護，與金(jin)(jin)屬(shu)外(wai)表(biao)面共同起陰極(ji)作(zuo)(zuo)(zuo)用(yong)(yong)。電解(jie)(jie)液靠毛細(xi)管(guan)作(zuo)(zuo)(zuo)用(yong)(yong)滲人(ren)到裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)尖(jian)端，使其在高電流密度(du)下(xia)發生(sheng)(sheng)(sheng)加速(su)(su)的(de)陽極(ji)活(huo)性(xing)溶解(jie)(jie)。隨(sui)著反應進行，裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)尖(jian)端的(de)電解(jie)(jie)質發生(sheng)(sheng)(sheng)濃度(du)變(bian)化，產(chan)生(sheng)(sheng)(sheng)極(ji)化作(zuo)(zuo)(zuo)用(yong)(yong)和表(biao)面膜的(de)再生(sheng)(sheng)(sheng)，腐蝕(shi)速(su)(su)率迅速(su)(su)下(xia)降。重復(fu)緩慢的(de)活(huo)性(xing)通道(dao)腐蝕(shi)，直到裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)尖(jian)端重新建立(li)起足夠大的(de)應力集中，再次(ci)引起變(bian)形(xing)和裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)產(chan)生(sheng)(sheng)(sheng)。這個(ge)過程不斷(duan)重復(fu)，直到裂(lie)縫(feng)(feng)(feng)(feng)深人(ren)到金(jin)(jin)屬(shu)內部，使金(jin)(jin)屬(shu)斷(duan)面減小到不足以承受載(zai)荷斷(duan)裂(lie)。
活性(xing)通(tong)(tong)道(dao)假(jia)說(shuo)強調了(le)應(ying)力(li)作(zuo)(zuo)用(yong)下(xia)(xia)表(biao)面膜(mo)的(de)(de)(de)破(po)(po)裂(lie)(lie)與電(dian)化(hua)學活性(xing)溶(rong)解(jie)的(de)(de)(de)聯合(he)作(zuo)(zuo)用(yong)。因此(ci)，這(zhe)個理論提出了(le)發生(sheng)(sheng)應(ying)力(li)腐蝕(shi)開裂(lie)(lie)必(bi)須具備(bei)的(de)(de)(de)兩個基(ji)本條件(jian)：一(yi)(yi)是(shi)合(he)金中預(yu)先要(yao)存(cun)在一(yi)(yi)條對腐蝕(shi)敏感的(de)(de)(de)、多(duo)少帶(dai)有連續性(xing)的(de)(de)(de)通(tong)(tong)道(dao)，這(zhe)條通(tong)(tong)道(dao)在特定的(de)(de)(de)環境介質中對于(yu)周圍組織(zhi)是(shi)腐蝕(shi)電(dian)池的(de)(de)(de)陽極；二(er)是(shi)合(he)金表(biao)面上(shang)要(yao)有足夠大(da)的(de)(de)(de)基(ji)本上(shang)是(shi)垂直(zhi)于(yu)通(tong)(tong)道(dao)的(de)(de)(de)張應(ying)力(li)，在該(gai)張應(ying)力(li)作(zuo)(zuo)用(yong)下(xia)(xia)裂(lie)(lie)縫(feng)尖端(duan)出現(xian)應(ying)力(li)集(ji)中區，促使表(biao)面膜(mo)破(po)(po)裂(lie)(lie)。在平(ping)面排列的(de)(de)(de)位錯(cuo)露頭(tou)處，或新形(xing)成(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)滑移(yi)臺階處，處于(yu)高應(ying)變狀態(tai)的(de)(de)(de)金屬(shu)原子發生(sheng)(sheng)擇優腐蝕(shi)，沿位錯(cuo)線向縱深發展(zhan)，形(xing)成(cheng)(cheng)隧洞(dong)。在應(ying)力(li)作(zuo)(zuo)用(yong)下(xia)(xia)，隧洞(dong)間的(de)(de)(de)金屬(shu)產生(sheng)(sheng)機(ji)械(xie)撕裂(lie)(lie)。當機(ji)械(xie)撕裂(lie)(lie)停止(zhi)后，又重新開始隧道(dao)腐蝕(shi)，此(ci)過(guo)程的(de)(de)(de)反復發生(sheng)(sheng)導致裂(lie)(lie)紋的(de)(de)(de)不斷擴展(zhan)，直(zhi)到(dao)金屬(shu)不能承受載(zai)荷(he)而發生(sheng)(sheng)過(guo)載(zai)斷裂(lie)(lie)。此(ci)模(mo)型雖然有一(yi)(yi)定的(de)(de)(de)實驗基(ji)礎，但屬(shu)于(yu)一(yi)(yi)種伴生(sheng)(sheng)現(xian)象，并(bing)非(fei)是(shi)應(ying)力(li)腐蝕(shi)的(de)(de)(de)必(bi)要(yao)條件(jian)，不能成(cheng)(cheng)為應(ying)力(li)腐蝕(shi)的(de)(de)(de)主(zhu)要(yao)機(ji)理。
五、應(ying)力吸附開裂理(li)論(lun)
上(shang)述(shu)幾種(zhong)理(li)論(lun)(lun)都(dou)包(bao)含電化學(xue)過程(cheng)，但是(shi)(shi)應力(li)腐(fu)(fu)(fu)蝕(shi)(shi)過程(cheng)的(de)一些(xie)現象(xiang)(xiang)，如腐(fu)(fu)(fu)蝕(shi)(shi)介(jie)(jie)質(zhi)的(de)選擇性、破(po)裂(lie)(lie)臨界(jie)電位(wei)與(yu)腐(fu)(fu)(fu)蝕(shi)(shi)電位(wei)的(de)關(guan)系等，用電化學(xue)理(li)論(lun)(lun)不(bu)能圓滿解釋。為此(ci)，尤(you)利格提(ti)出應力(li)吸(xi)附(fu)破(po)裂(lie)(lie)理(li)論(lun)(lun)。他認為，應力(li)腐(fu)(fu)(fu)蝕(shi)(shi)開裂(lie)(lie)一般(ban)并不(bu)是(shi)(shi)由(you)于金(jin)屬(shu)的(de)電化學(xue)溶解所引起的(de)，而是(shi)(shi)由(you)于環境(jing)中某些(xie)破(po)壞性組分對金(jin)屬(shu)內表(biao)面的(de)吸(xi)附(fu)，削弱了金(jin)屬(shu)原子間(jian)的(de)結合力(li)，在拉應力(li)作用下(xia)引起破(po)裂(lie)(lie)。這是(shi)(shi)一種(zhong)純機(ji)械性破(po)裂(lie)(lie)機(ji)理(li)。此(ci)模(mo)型(xing)為純機(ji)械開裂(lie)(lie)模(mo)型(xing)，該模(mo)型(xing)得到的(de)最大支持(chi)是(shi)(shi)許多純金(jin)屬(shu)和合金(jin)在液態金(jin)屬(shu)中的(de)脆(cui)斷。吸(xi)附(fu)使金(jin)屬(shu)表(biao)面能降(jiang)低(di)，降(jiang)低(di)得越多，應力(li)腐(fu)(fu)(fu)蝕(shi)(shi)敏感性越高(gao)，但有的(de)現象(xiang)(xiang)卻是(shi)(shi)相(xiang)反的(de)，缺乏廣泛的(de)實驗支持(chi)，在水介(jie)(jie)質(zhi)的(de)應力(li)腐(fu)(fu)(fu)蝕(shi)(shi)理(li)論(lun)(lun)中所占(zhan)的(de)比例不(bu)大。
六、腐蝕產物楔入理論
腐(fu)蝕(shi)產(chan)(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)(wu)楔(xie)入理論是(shi)由N.Nielsen首(shou)先(xian)提出的(de)，他認(ren)為，腐(fu)蝕(shi)產(chan)(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)(wu)沉(chen)積(ji)在裂紋(wen)(wen)尖端(duan)后(hou)面(mian)的(de)陰(yin)(yin)極區(qu)。這(zhe)種腐(fu)蝕(shi)產(chan)(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)(wu)有舌(she)狀(zhuang)(zhuang)、扇(shan)狀(zhuang)(zhuang)等。在未(wei)加應(ying)(ying)力(li)(li)時，腐(fu)蝕(shi)產(chan)(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)(wu)雜亂分布；加應(ying)(ying)力(li)(li)后(hou)，不僅(jin)使(shi)腐(fu)蝕(shi)產(chan)(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)(wu)沿晶(jing)體缺陷，特別是(shi)沿位(wei)錯線排列(lie)，而且舌(she)狀(zhuang)(zhuang)、扇(shan)狀(zhuang)(zhuang)等也(ye)發(fa)展得更突出。腐(fu)蝕(shi)產(chan)(chan)(chan)(chan)物(wu)(wu)(wu)的(de)沉(chen)積(ji)對裂紋(wen)(wen)起(qi)了楔(xie)子(zi)作用，產(chan)(chan)(chan)(chan)生了應(ying)(ying)力(li)(li)。當沉(chen)積(ji)物(wu)(wu)(wu)造成(cheng)的(de)應(ying)(ying)力(li)(li)達到(dao)臨界值后(hou)，裂紋(wen)(wen)向前擴展，新產(chan)(chan)(chan)(chan)生的(de)裂紋(wen)(wen)內(nei)吸人了電解(jie)質(zhi)溶(rong)液(ye)，使(shi)得裂紋(wen)(wen)尖端(duan)陽(yang)極溶(rong)解(jie)繼(ji)續(xu)進行(xing)，這(zhe)就(jiu)產(chan)(chan)(chan)(chan)生了更多的(de)可溶(rong)性(xing)金(jin)屬離(li)子(zi)，這(zhe)些離(li)子(zi)擴散(san)至陰(yin)(yin)極區(qu)并生成(cheng)氧化物(wu)(wu)(wu)和氫(qing)氧化物(wu)(wu)(wu)等沉(chen)積(ji)下(xia)來，因此而產(chan)(chan)(chan)(chan)生的(de)應(ying)(ying)力(li)(li)又引起(qi)裂紋(wen)(wen)向前擴展，如(ru)此反復，直至開(kai)裂。
七(qi)、閉(bi)塞電池(chi)理論
閉(bi)塞電池理論（Occluded Cell Corrosion)認為(wei)，由(you)(you)于(yu)金屬表(biao)面(mian)某些(xie)選擇性腐(fu)蝕(shi)的(de)結(jie)果(guo)，或者由(you)(you)于(yu)某些(xie)特殊的(de)幾何形狀，使電解液中這(zhe)些(xie)部位的(de)流動(dong)性受到(dao)限制，造(zao)成(cheng)(cheng)這(zhe)些(xie)部位的(de)液體化學成(cheng)(cheng)分(fen)與(yu)整體化學成(cheng)(cheng)分(fen)有(you)很大差(cha)異(yi)，從而降低了這(zhe)些(xie)部位的(de)電位，加(jia)(jia)速(su)該區域(yu)的(de)局部腐(fu)蝕(shi)，形成(cheng)(cheng)空洞，這(zhe)些(xie)空洞就是所謂的(de)閉(bi)塞電池。閉(bi)塞電池內，陽極反應的(de)結(jie)果(guo)使酸度(du)增加(jia)(jia)，從而加(jia)(jia)速(su)了孔蝕(shi)的(de)速(su)率，在(zai)應力的(de)作用下孔蝕(shi)可擴展為(wei)裂紋。
八(ba)、以機械開裂為主的兩段論
以機械開(kai)(kai)裂為主(zhu)的兩段論認為：應力腐(fu)蝕首先由于電(dian)化學(xue)的腐(fu)蝕作用形(xing)成(cheng)裂紋(wen)源，然后在(zai)應力的作用下迅速擴(kuo)展(zhan)而(er)開(kai)(kai)裂。當裂紋(wen)擴(kuo)展(zhan)遇(yu)到析出物(wu)或不規則取向晶粒時而(er)停止(zhi)，然后再進(jin)行電(dian)化學(xue)腐(fu)蝕，這樣交替進(jin)行，直至開(kai)(kai)裂。
九(jiu)、開裂(lie)三段論理論
左景伊提出開裂(lie)(lie)三階段(duan)理論，其要點(dian)是(shi)解釋所謂的(de)特(te)性離子作用。這三個階段(duan)是(shi)：材料表(biao)面(mian)生(sheng)成(cheng)鈍化膜或保(bao)護膜，全面(mian)腐蝕(shi)(shi)速率(lv)比較低，使腐蝕(shi)(shi)只發生(sheng)在(zai)局部區域；保(bao)護膜局部破(po)裂(lie)(lie)，形成(cheng)孔(kong)蝕(shi)(shi)或裂(lie)(lie)紋源(yuan)；縫內(nei)環境(jing)發生(sheng)關鍵(jian)性的(de)變化，裂(lie)(lie)縫向縱(zong)深(shen)發展，而不是(shi)在(zai)表(biao)面(mian)徑(jing)向擴散(san)。
