表面氣相沉積強化工藝技術特點
氣(qi)相沉積按形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)的(de)基本原理(li),分(fen)為(wei)化學(xue)氣(qi)相沉積(CVD)和物理(li)氣(qi)相沉積(PVD)。氣(qi)相沉積是在工件(jian)表面覆蓋一層(ceng)厚度為(wei)0.5~10μm的(de)過渡族元素(Ti、V、Cr、W、Nb等)與C、N、O、B等形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)的(de)化合(he)物,或單一的(de)金(jin)屬及非金(jin)屬涂層(ceng),使(shi)零件(jian)表層(ceng)改變(bian)化學(xue)成(cheng)(cheng)分(fen),并在其表面形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)...