表面氣相沉積強化工藝技術特點
氣(qi)相沉(chen)積按形(xing)(xing)成(cheng)的(de)基本原理,分為(wei)化學氣(qi)相沉(chen)積(CVD)和物理氣(qi)相沉(chen)積(PVD)。氣(qi)相沉(chen)積是在工件(jian)表(biao)面覆蓋一層(ceng)厚度為(wei)0.5~10μm的(de)過(guo)渡族元(yuan)素(Ti、V、Cr、W、Nb等)與C、N、O、B等形(xing)(xing)成(cheng)的(de)化合物,或單一的(de)金(jin)屬及非金(jin)屬涂(tu)層(ceng),使零件(jian)表(biao)層(ceng)改變化學成(cheng)分,并在其表(biao)面形(xing)(xing)成(cheng)...